特許
J-GLOBAL ID：201503019525493896
フォトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (10件)：
天野 一規
, 藤本 勝誠
, 池田 義典
, 小川 博生
, 加藤 早苗
, 石田 耕治
, 森田 慶子
, 各務 幸樹
, 根木 義明
, 新庄 孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-026021
公開番号（公開出願番号）：特開2013-164437
特許番号：特許第5790529号
出願日： 2012年02月09日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 [A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び
[B]酸発生体
を含有するフォトレジスト組成物。
(式(1)中、R1は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。R2〜R7は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のフッ素化炭化水素基又はOR8基である。R8は、炭素数1〜20の炭化水素基又は炭素数1〜20のフッ素化炭化水素基である。但し、R6及びR7のうち少なくとも1つは、炭素数1〜20の炭化水素基である。a及びbは、それぞれ独立して、1〜4の整数である。cは、2又は3である。但し、a、b又はcが2以上の場合、複数のR2〜R7は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。)
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, C08F 220/26 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/038 601
, C08F 220/26
