特許
J-GLOBAL ID:201503019653874436
多官能性アミンおよび異なる多官能性アミン反応性モノマーの組み合わせ由来の膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 出野 知
, 永坂 友康
, 小林 良博
, 大賀 眞司
, 百本 宏之
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-523112
公開番号(公開出願番号):特表2015-528742
出願日: 2013年07月03日
公開日(公表日): 2015年10月01日
要約:
多孔質支持体および薄膜ポリアミド層を含む複合ポリアミド膜を製造する方法であって、多官能性アミンモノマーと、アミン反応性化合物の組み合わせとを多孔質支持体の表面に塗布するステップと、これらの成分を反応させて薄膜ポリアミド層を形成するステップとを含み、前述のアミン反応性化合物がi)ハロゲン化アシル、ハロゲン化スルホニルおよび無水物から選択される2〜3のアミン反応性部分を含む多官能性アミン反応性モノマーと、ii)ハロゲン化アシル、ハロゲン化スルホニルおよび無水物から選択される少なくとも4つのアミン反応性部分を含む多官能性アミン反応性モノマーと、iii)少なくとも1つのカルボン酸部分またはその塩およびハロゲン化アシルおよびハロゲン化スルホニルから選択される少なくとも1つのアミン反応性部分を含む酸化合物とを含む、方法。 【選択図】なし
請求項(抜粋):
多孔質支持体および薄膜ポリアミド層を含む複合ポリアミド膜を製造する方法であって、前記方法が多官能性アミンモノマーと、アミン反応性化合物の組み合わせとを前記多孔質支持体の表面に塗布するステップと、前記成分を反応させて薄膜ポリアミド層を形成するステップとを含み、前記アミン反応性化合物が
i)ハロゲン化アシル、ハロゲン化スルホニルおよび無水物から選択される2〜3のアミン反応性部分を含む多官能性アミン反応性モノマーと、
ii)ハロゲン化アシル、ハロゲン化スルホニルおよび無水物から選択される少なくとも4つのアミン反応性部分を含む多官能性アミン反応性モノマーと、
iii)少なくとも1つのカルボン酸部分またはその塩と、ハロゲン化アシルおよびハロゲン化スルホニルから選択される少なくとも1つのアミン反応性部分とを含む酸化合物とを含む、方法。
IPC (6件):
B01D 71/56
, B01D 69/12
, B01D 69/10
, B01D 69/02
, C08G 69/28
, C08G 75/30
FI (6件):
B01D71/56
, B01D69/12
, B01D69/10
, B01D69/02
, C08G69/28
, C08G75/30
Fターム (50件):
4D006GA03
, 4D006MA01
, 4D006MA02
, 4D006MA03
, 4D006MA07
, 4D006MA09
, 4D006MA31
, 4D006MB02
, 4D006MB06
, 4D006MC22
, 4D006MC23
, 4D006MC29
, 4D006MC37
, 4D006MC39
, 4D006MC54X
, 4D006MC58
, 4D006MC59
, 4D006MC62
, 4D006MC63
, 4D006MC75
, 4D006NA41
, 4D006NA46
, 4D006NA49
, 4J001DA01
, 4J001DA10
, 4J001DB06
, 4J001EB28
, 4J001EB45
, 4J001EB55
, 4J001EB56
, 4J001EB67
, 4J001EB69
, 4J001EC05
, 4J001EC06
, 4J001EC44
, 4J001EC45
, 4J001EC46
, 4J001EC65
, 4J001EC77
, 4J001FB07
, 4J001FC03
, 4J001GA16
, 4J001GD07
, 4J001GD08
, 4J001JB29
, 4J001JC01
, 4J030BA22
, 4J030BB48
, 4J030BB51
, 4J030BF19
引用特許:
出願人引用 (4件)
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複合ナノ粒子TFC膜
公報種別:公表公報
出願番号:特願2011-505186
出願人:ナノエイチツーオー・インコーポレーテッド
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複合逆浸透膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-147711
出願人:日東電工株式会社
-
複合逆浸透膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-221348
出願人:日東電工株式会社
-
複合半透膜およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-007545
出願人:東レ株式会社
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審査官引用 (4件)
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複合ナノ粒子TFC膜
公報種別:公表公報
出願番号:特願2011-505186
出願人:ナノエイチツーオー・インコーポレーテッド
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複合逆浸透膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-147711
出願人:日東電工株式会社
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複合逆浸透膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-221348
出願人:日東電工株式会社
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