特許
J-GLOBAL ID：201503020440261250
ポリシロキサンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-551719
特許番号：特許第5821971号
出願日： 2012年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記一般式(1)で表されるポリシロキサンの製造方法であって、2-ブタノール、2-ペンタノール、3-ペンタノール、3-メチル-2-ブタノール、シクロペンタノール、2-ヘキサノール、3-ヘキサノール、3-メチル-2-ペンタノール及びシクロヘキサノールから選択される少なくとも1つのアルコールを含む反応溶媒中で、
縮合により下記構成単位(1-2)を与える化合物と、
縮合により下記構成単位(1-3)を与える化合物、縮合により下記構成単位(1-4)を与える化合物、及び、縮合により下記構成単位(1-5)を与える化合物から選ばれた少なくとも1種と、
を含有する原料モノマーの加水分解・重縮合反応を行う縮合工程を備える、ポリシロキサンの製造方法。
〔式中、Aは、ヒドロシリル化反応可能な、炭素-炭素不飽和結合を有する炭素原子数2〜10の有機基であり、R1は炭素原子数1〜20のアルキレン基、炭素原子数6〜20の2価の芳香族基、及び炭素原子数3〜20の2価の脂環族基から選択される少なくとも1種であり、nは0又は1であり、R2は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、及び、ヒドロシリル化反応可能な、炭素-炭素不飽和結合を有する炭素原子数2〜10の有機基(1分子中のR2は同一でも異なっていてもよい。)から選択される少なくとも1種であり、R3は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、及び、ヒドロシリル化反応可能な、炭素-炭素不飽和結合を有する炭素原子数2〜10の有機基から選択される少なくとも1種であり、R4は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、及び、ヒドロシリル化反応可能な、炭素-炭素不飽和結合を有する炭素原子数2〜10の有機基(1分子中のR4は同一でも異なっていてもよい。)から選択される少なくとも1種であり、R5は水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基であり、vは正の数であり、u、w、x、y及びzは0又は正の数であり、w、x及びyのうち少なくとも1つは正の数であり、0≦u/(v+w+x+y)≦2であり、0≦x/(v+w)≦2であり、0≦y/(v+w)≦2であり、0≦z/(v+w+x+y)≦1である。但し、w=0のとき、R2、R3及びR4のいずれか1つはヒドロシリル化反応可能な、炭素-炭素不飽和結合を有する炭素原子数2〜10の有機基である。〕
IPC (3件)：
C08G 77/06 ( 200 6.01)
, C08G 77/20 ( 200 6.01)
, C08G 77/12 ( 200 6.01)
C08G 77/06
, C08G 77/20
, C08G 77/12
