特許

J-GLOBAL ID：201503020964314769

保持装置、露光装置、および物品の製造方法

発明者： 岩谷 聡
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-270126
公開番号（公開出願番号）：特開2015-126127
出願日： 2013年12月26日
公開日（公表日）： 2015年07月06日
要約：

【課題】原版を保持する上で有利な技術を提供する。【解決手段】互いに異なる表面状態を有する第1面および第2面を有する原版を保持する保持装置は、前記第1面に接触する第1接触面を有し、前記第1面に前記第1接触面を吸着させることにより前記原版を保持する第1保持部と、前記第2面に接触する第2接触面を有し、前記第2面に前記第2接触面を吸着させることにより前記原版を保持する第2保持部と、を含み、前記第1保持部と前記第2保持部とは、前記第1面と前記第1接触面との間における摩擦係数と、前記第2面と前記第2接触面との間における摩擦係数との差が、前記第1接触面と前記第2接触面との表面粗さが同じである場合よりも小さくなるように、前記第1接触面の表面粗さと前記第2接触面の表面粗さとが互いに異なって構成されている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

互いに異なる表面状態を有する第1面および第2面を有する原版を保持する保持装置であって、 前記第1面に接触する第1接触面を有し、前記第1面に前記第1接触面を吸着させることにより前記原版を保持する第1保持部と、 前記第2面に接触する第2接触面を有し、前記第2面に前記第2接触面を吸着させることにより前記原版を保持する第2保持部と、 を含み、 前記第1保持部と前記第2保持部とは、前記第1面と前記第1接触面との間における摩擦係数と、前記第2面と前記第2接触面との間における摩擦係数との差が、前記第1接触面と前記第2接触面との表面粗さが同じである場合よりも小さくなるように、前記第1接触面の表面粗さと前記第2接触面の表面粗さとが互いに異なって構成されている、ことを特徴とする保持装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/683

FI (2件)：

H01L21/30 515F ,  H01L21/68 N

Fターム (14件)：

5F131AA10 ,  5F131BA13 ,  5F131CA07 ,  5F131EB36 ,  5F131EB37 ,  5F131EB55 ,  5F131EB56 ,  5F131EB78 ,  5F146AA25 ,  5F146BA04 ,  5F146BA05 ,  5F146CC02 ,  5F146CC09 ,  5F146CC10