特許
J-GLOBAL ID：201503021004063482

周縁部塗布装置、周縁部塗布方法及び周縁部塗布用記録媒体

発明者：
畠山 真一

畠山 真一 について

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佐藤 好友

佐藤 好友 について

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田代 和之

田代 和之 について

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木下 尚文

木下 尚文 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二 ,  松尾 茂樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-265395
公開番号（公開出願番号）：特開2014-110386
特許番号：特許第5779168号
出願日： 2012年12月04日
公開日（公表日）： 2014年06月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の周縁部に塗布液を塗布する周縁部塗布装置であって、 前記基板を水平に保持して回転させる回転保持部と、 前記基板の上方に位置して下方に前記塗布液を吐出する塗布液ノズルを有し、前記基板の表面に前記塗布液を供給する塗布液供給部と、 前記塗布液ノズルを水平方向に移動させる水平移送部と、 前記回転保持部、前記塗布液供給部及び前記水平移送部を制御する塗布制御部と、を備え、 前記塗布制御部は、 前記回転保持部を制御して前記基板を回転させると共に、前記塗布液供給部を制御して前記塗布液ノズルから前記塗布液を吐出させながら、前記水平移送部を制御して前記塗布液ノズルを前記基板の周縁の外側から前記基板の周縁部上に移動させるスキャンイン制御と、 前記回転保持部を制御して前記基板を回転させると共に、前記塗布液供給部を制御して前記塗布液ノズルから前記塗布液を吐出させながら、前記水平移送部を制御して前記塗布液ノズルを前記基板の周縁部上から前記基板の周縁の外側に移動させるスキャンアウト制御とを行い、 前記スキャンアウト制御を行うときに、前記塗布液が前記基板の周縁側に移動する速度に比べ低い速度で前記塗布液ノズルを移動させる、周縁部塗布装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  B05C 11/08 ( 200 6.01) ,  B05D 1/40 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 564 D ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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