露光装置、及び構造の生産方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：井上学 , 戸田裕二 , 岩崎重美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-548255
特許番号：特許第5732548号
出願日： 2012年12月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】構造を生産するための生産方法であって、凹凸形状と前記凹凸形状の上に塗布された蛍光試料とを有する標準試料に光を照明し、前記標準試料から発生したモアレ縞を観察し、前記モアレ縞から干渉縞の周期を得て、前記干渉縞を用いて基板に対して露光を行うことを特徴とする構造を生産するための生産方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/20 ( 200 6.01) , G02B 5/18 ( 200 6.01) , G01B 11/30 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/30 528 , G03F 7/20 505 , G02B 5/18 , G01B 11/30 102 G

引用特許：

出願人引用 (4件)

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審査官引用 (4件)

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