特許
J-GLOBAL ID：201503022576477003
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-219315
公開番号（公開出願番号）：特開2015-082561
出願日： 2013年10月22日
公開日（公表日）： 2015年04月27日
要約：
【課題】マスクサイズより大きな面積のパターン像を露光するつなぎ方法において、走査方向につなぎを行った場合でも、スループットを低下させることなくつなぎ露光をおこなうことを目的とする。【解決手段】照明手段からの露光光を段階的に遮光する露光光遮光機構を備え、この露光光遮光機構を用いてプレート面上に到達する露光光を調整する手段と、プレート上のショットの開始直後あるいは終了直前の領域に対して露光光を調整しながら露光をおこない、非走査方向に隣接するショットを順次露光し、露光開始ショットの対角ショットに移動後、同様に非走査方向に隣接するショットを順次露光して、つなぎ領域に対して重ね露光をおこなう手段を有する。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
マスクステージに支持したマスク面上の回路パターンを照明手段からの露光光で照明し投影光学系によりプレートステージに載置したプレート面上に投影する投影露光装置において、マスクサイズより大きな面積のパターン像を露光する場合、照明手段からの露光光を段階的に遮光する露光光遮光機構を備え、
前記露光光遮光機構を用いてプレート面上に到達する露光光を調整する手段と、
プレート上のショットの開始直後あるいは終了直前の領域に対して露光光を調整しながら露光をおこない、非走査方向に隣接するショットを順次露光し、露光開始ショットの対角ショットに移動後、同様に非走査方向に隣接するショットを順次露光しながら、つなぎ露光領域に対して重ね露光をおこなう手段とを備えることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 514A
, H01L21/30 502C
, G03F7/22
2H097AA11
, 2H097AB09
, 2H097CA12
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F146AA11
, 5F146BA03
, 5F146CB05
