シリコン/ゲルマニウム・ナノ粒子インク及び所望の印刷特性を有するインクの形成方法。

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 小林良博 , 出野知 , 蛯谷厚志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-553307
公開番号（公開出願番号）：特表2015-510000
出願日： 2012年12月28日
公開日（公表日）： 2015年04月02日
要約：

安定分散体中に良分配されたシリコン/ゲルマニウム・ナノ粒子を有する改良されたシリコン/ゲルマニウム・ナノ粒子インクが記載される。具体的には、インクは、汚染物質並びに良分散されていない分散体部分を除去するための遠心分離工程で調製される。遠心分離後には音波処理工程を用いることができる。音波処理工程は、いくつかのインクの品質に相乗的な改善をもたらすことが観察される。シリコン/ゲルマニウム・インク特性は特定の堆積用途、例えばスピン被覆又はスクリーン印刷のために工学的に作り出すことができる。シリコン/ゲルマニウム・ナノ粒子を表面改質することなしにインク設計にフレキシビリティをもたらすのに適した処理方法が記載される。シリコン/ゲルマニウム・ナノ粒子は、半導体構成部分、例えば薄膜トランジスタ又はソーラーセル接点のための構成部分を形成するのに適している。

請求項（抜粋）：

溶媒と、約75nm以下の平均一次粒径及び約1重量パーセント〜約20重量パーセントのシリコン/ゲルマニウム・ナノ粒子のナノ粒子濃度を有する元素シリコン/ゲルマニウム・ナノ粒子とを含むペーストであって、該ペーストが、約2Pa・s〜約450Pa・sの剪断速度約2s-1における粘度、約1Pa・s以下の剪断速度約1000s-1における粘度、及び少なくとも約20である、剪断速度約1000s-1における粘度に対する剪断速度約2s-1における粘度の比を有しているペースト。

IPC (6件)：

C09D 17/00 , B82Y 40/00 , B82Y 30/00 , C09C 1/62 , C09D 11/037 , C09D 11/322

FI (6件)：

C09D17/00 , B82Y40/00 , B82Y30/00 , C09C1/62 , C09D11/037 , C09D11/322

Fターム (25件)：

4J037AA04 , 4J037CB04 , 4J037CB07 , 4J037CB08 , 4J037CB19 , 4J037CC01 , 4J037DD05 , 4J037DD23 , 4J037DD27 , 4J037EE08 , 4J037EE28 , 4J039BA06 , 4J039BA20 , 4J039BA21 , 4J039BC07 , 4J039BC16 , 4J039BC20 , 4J039BE01 , 4J039BE12 , 4J039CA07 , 4J039CA08 , 4J039EA24 , 4J039FA07 , 4J039GA10 , 4J039GA24

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