特許
J-GLOBAL ID：201503023620661115
試験器インタフェース接触要素及び支持ハードウエアを清浄化するための器具、装置、及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-213772
公開番号（公開出願番号）：特開2013-048255
特許番号：特許第5735941号
出願日： 2012年09月27日
公開日（公表日）： 2013年03月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 半導体試験器具におけるピン接触要素及び支持ハードウエアを清浄化するための清浄化装置であって、
特定のピン接触要素に適切な所定の構成を有する清浄化層と、
研磨性、比重、弾性、粘着性、平面性、厚み、及び孔隙率のうちの1つ又はそれよりも多くを提供する1つ又はそれよりも多くの中間層であって、該中間層が、少なくとも1つの剛性層及び少なくとも1つの柔軟層を含み、前記剛性層及び前記柔軟層の各々が2.54センチ当たり10から150個の細孔の範囲内の孔隙率を有している、前記1つ又はそれよりも多くの中間層と、
試験器具の通常試験作動中に該試験器具内に導入される構成を有し、かつ代理半導体ウェーハ又はパッケージ化IC装置を含む基板と、
を含み、
前記基板に固定された前記清浄化層は、通常試験作動への修正なしに前記ピン接触要素及び支持ハードウエアが清浄化されるように該ピン接触要素及び支持ハードウエアがパッドに接触する時に、該パッドに該ピン接触要素及び支持ハードウエアのデブリを清浄化させる所定の特性を有する、
ことを特徴とする装置。
IPC (2件)：
H01L 21/66 ( 200 6.01)
, G01R 1/073 ( 200 6.01)
H01L 21/66 B
, G01R 1/073 Z
