特許
J-GLOBAL ID:201503023879350304
電解槽
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
小川 護晃
, 奥山 尚一
, 西山 春之
, 池本 理絵
, 関谷 充司
, 有原 幸一
, 松島 鉄男
, 河村 英文
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-552550
公開番号(公開出願番号):特表2015-504116
出願日: 2012年12月18日
公開日(公表日): 2015年02月05日
要約:
電解槽(2)は、2つの端板(6,8)の間に配置されてポリマ電解質膜構造を有する少なくとも1つの電解セル(4)と、2つの端板(6,8)の間に押圧力を発生させる手段とを備える。この押圧力は、少なくとも部分的に、電解セル(4)により発生されるガス圧に依存して制御される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
2つの端板(6,8)の間に配置されてポリマ電解質膜構造を有する少なくとも1つの電解セル(4)と、
前記2つの端板(6,8)の間に押圧力を発生させる手段と、
を備え、
前記押圧力は、少なくとも部分的に、前記電解セル(4)により発生されるガス圧に依存して制御されることを特徴とする、電解槽(2)。
IPC (5件):
C25B 15/00
, C25B 9/00
, C25B 1/12
, C25B 1/10
, C25B 15/08
FI (5件):
C25B15/00 302Z
, C25B9/00 B
, C25B1/12
, C25B1/10
, C25B15/08 302
Fターム (12件):
4K021AA01
, 4K021BA02
, 4K021BC07
, 4K021CA03
, 4K021CA09
, 4K021CA13
, 4K021DB04
, 4K021DB16
, 4K021DB46
, 4K021DB53
, 4K021DC03
, 4K021EA02
引用特許:
審査官引用 (1件)
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高圧水素製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-208051
出願人:本田技研工業株式会社
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