特許
J-GLOBAL ID:201503023879350304

電解槽

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 小川 護晃 ,  奥山 尚一 ,  西山 春之 ,  池本 理絵 ,  関谷 充司 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  河村 英文
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-552550
公開番号(公開出願番号):特表2015-504116
出願日: 2012年12月18日
公開日(公表日): 2015年02月05日
要約:
電解槽(2)は、2つの端板(6,8)の間に配置されてポリマ電解質膜構造を有する少なくとも1つの電解セル(4)と、2つの端板(6,8)の間に押圧力を発生させる手段とを備える。この押圧力は、少なくとも部分的に、電解セル(4)により発生されるガス圧に依存して制御される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
2つの端板(6,8)の間に配置されてポリマ電解質膜構造を有する少なくとも1つの電解セル(4)と、 前記2つの端板(6,8)の間に押圧力を発生させる手段と、 を備え、 前記押圧力は、少なくとも部分的に、前記電解セル(4)により発生されるガス圧に依存して制御されることを特徴とする、電解槽(2)。
IPC (5件):
C25B 15/00 ,  C25B 9/00 ,  C25B 1/12 ,  C25B 1/10 ,  C25B 15/08
FI (5件):
C25B15/00 302Z ,  C25B9/00 B ,  C25B1/12 ,  C25B1/10 ,  C25B15/08 302
Fターム (12件):
4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BC07 ,  4K021CA03 ,  4K021CA09 ,  4K021CA13 ,  4K021DB04 ,  4K021DB16 ,  4K021DB46 ,  4K021DB53 ,  4K021DC03 ,  4K021EA02
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 高圧水素製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-208051   出願人:本田技研工業株式会社

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