ガスバリア性フィルム、その製造方法、およびこれを用いた電子デバイス

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-130631
公開番号（公開出願番号）：特開2015-003464
出願日： 2013年06月21日
公開日（公表日）： 2015年01月08日
要約：

【課題】高温高湿条件下であっても十分なガスバリア性能を示すガスバリア性フィルムを提供する。【解決手段】基材、第1の層、第2の層、および第3の層をこの順に含み、前記第1の層は、ケイ素、アルミニウムおよびチタンからなる群より選択される少なくとも1種の酸化物、窒化物、酸窒化物または酸炭化物の少なくとも1種を含み、かつ物理蒸着法により形成され、前記第2の層は、無機酸化物を含み、かつ原子層堆積法により形成され、前記第3の層は、ケイ素化合物を含有する液を塗布して形成される塗膜を改質処理して得られる、ガスバリア性フィルム。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基材、第1の層、第2の層、および第3の層をこの順に含み、前記第1の層は、ケイ素、アルミニウムおよびチタンからなる群より選択される少なくとも1種の酸化物、窒化物、酸窒化物または酸炭化物の少なくとも1種を含み、かつ物理蒸着法により形成され、前記第2の層は、無機酸化物を含み、かつ原子層堆積法により形成され、前記第3の層は、ケイ素化合物を含有する液を塗布して形成される塗膜を改質処理して得られる、ガスバリア性フィルム。

IPC (10件)：

B32B 9/00 , B32B 27/00 , B05D 3/10 , B05D 7/24 , C23C 14/10 , C23C 16/455 , H01L 51/50 , H05B 33/02 , H05B 33/04 , H05B 33/10

FI (10件)：

B32B9/00 A , B32B27/00 B , B05D3/10 E , B05D7/24 302Y , C23C14/10 , C23C16/455 , H05B33/14 A , H05B33/02 , H05B33/04 , H05B33/10

Fターム (83件)：

3K107AA01 , 3K107CC23 , 3K107DD19 , 3K107EE45 , 3K107FF15 , 3K107GG05 , 3K107GG06 , 4D075BB44Z , 4D075BB72X , 4D075BB78X , 4D075BB85X , 4D075DA04 , 4D075DA06 , 4D075DB33 , 4D075DB44 , 4D075DB48 , 4D075DC21 , 4D075EA07 , 4D075EA19 , 4D075EA21 , 4D075EA41 , 4D075EB22 , 4D075EB31 , 4D075EB42 , 4D075EC08 , 4F100AA12B , 4F100AA15B , 4F100AA17B , 4F100AA19 , 4F100AA19B , 4F100AA20 , 4F100AA20B , 4F100AA21 , 4F100AA21B , 4F100AD03C , 4F100AH06 , 4F100AH06D , 4F100AK25 , 4F100AK41 , 4F100AK79 , 4F100AT00A , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100BA10D , 4F100EH46 , 4F100EH46D , 4F100EH56D , 4F100EH66 , 4F100EH66B , 4F100EH66C , 4F100EJ00D , 4F100EJ54 , 4F100EJ58 , 4F100EJ59 , 4F100EJ61 , 4F100GB41 , 4F100JD02 , 4F100JD04 , 4F100JK14 , 4K029AA11 , 4K029AA25 , 4K029BA41 , 4K029BA46 , 4K029BA58 , 4K029CA01 , 4K029CA06 , 4K029DC16 , 4K029FA07 , 4K029JA10 , 4K029KA03 , 4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030AA11 , 4K030AA14 , 4K030AA24 , 4K030BA43 , 4K030BA44 , 4K030BA46 , 4K030CA07 , 4K030FA10 , 4K030GA14 , 4K030HA01 , 4K030HA04

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