特許

J-GLOBAL ID：201503026284997214

粒子線治療システム

発明者： 藤高 伸一郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (3件)： 井上 学 ,  戸田 裕二 ,  岩崎 重美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-239453
公開番号（公開出願番号）：特開2015-097683
出願日： 2013年11月20日
公開日（公表日）： 2015年05月28日
要約：

【課題】 回転ガントリー内に設置した2台の走査電磁石でスキャニング照射を行っていたことから、回転ガントリーの回転半径が大きくなるなど装置が大型化する傾向にあった。また、2台の走査電磁石と回転ガントリーの回転を組み合わせることで、患部以外の線量を低減することが可能であったものの、スキャニング照射の自由度が大きいため照射スポット数が多くなる傾向にあり、治療時間が長くなっていた。【解決手段】 1台の走査電磁石40と回転ガントリーによる回転により、患部51へのスキャニング照射を実現する。一台の走査電磁石による一次元走査面内では、粒子線のエネルギー変更とスキャニング照射を行う。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

粒子線を加速して出射する加速器と、 加速された前記粒子線を照射対象に照射する照射ノズルと、 前記加速器で加速された粒子線を前記照射ノズルまで輸送するビーム輸送系と、 前記照射対象をのせる治療台の周りを、前記照射ノズルと共に回転する回転ガントリーを備える粒子線治療システムであって、 前記照射ノズルは、前記粒子線を一方向に走査する1台の走査電磁石を有し、前記回転ガントリーが回転することで、複数の角度から前記粒子線を出射することを特徴とする粒子線治療システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (1件)：

A61N5/10 H

Fターム (5件)：

4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE03 ,  4C082AG12 ,  4C082AG53