特許

J-GLOBAL ID：201503027795872041

磁気共鳴イメージング装置及び領域撮像方法

発明者： 中西 健二 ,  板垣 博幸 ,  西原 崇
出願人/特許権者： 株式会社日立メディコ
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012082139
公開番号（公開出願番号）：WO2013-105384
出願日： 2012年12月12日
公開日（公表日）： 2013年07月18日
要約：

操作者の負担を増大することなく、撮像条件に対応して、静磁場不均一による画質劣化を低減するために、選択領域の静磁場不均一が小さくなくなるようなシミング電流を求め、求めた局所Boシミング電流を用いて選択領域をシミングして、該選択領域の静磁場不均一を低減した状態での、該選択領域を励起するRFパルスの、照射位相のインクリメント量(RF-Phase)、又は、励起周波数である調整後励起周波数(f0')を求める。これら照射位相のインクリメント量(RF-Phase)と励起周波数である調整後励起周波数(f0')とは互いに対応する量となる。

請求項（抜粋）：

被検体が配置される撮像領域に静磁場を発生する静磁場発生部と、 シミング電流が供給されて、前記静磁場の空間的な不均一である静磁場不均一を低減する補償磁場を発生するシミング部と、 所定のパルスシーケンスに基づいて前記被検体からのエコー信号の計測を制御する計測制御部と、 前記エコー信号を用いて前記静磁場不均一を求める静磁場不均一測定部と、 前記静磁場不均一に基づいて、前記シミング電流を求めるシミング電流算出部と、 前記静磁場不均一に基づいて、パルスシーケンスに用いるRFパルスの照射位相のインクリメント量(RF-Phase)を求めるRF-Phase算出部と、 前記シミング部に前記シミング電流が供給されて前記静磁場不均一が低減された状態で、前記RFパルスの照射位相を前記インクリメント量ずつ変えて、前記被検体からのエコー信号の計測を制御する計測制御部と、 を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。

IPC (1件)：

A61B 5/055

FI (2件)：

A61B5/05 370 ,  A61B5/05 311

Fターム (18件)：

4C096AB18 ,  4C096AB32 ,  4C096AC01 ,  4C096AC05 ,  4C096AC08 ,  4C096AD10 ,  4C096BA24 ,  4C096BB03 ,  4C096CA02 ,  4C096CA03 ,  4C096CA05 ,  4C096CA15 ,  4C096CA16 ,  4C096CA17 ,  4C096CA18 ,  4C096CA23 ,  4C096DE06 ,  4C096DE07