特許
J-GLOBAL ID:201503027801726664

臭素化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-263414
公開番号(公開出願番号):特開2015-117222
出願日: 2013年12月20日
公開日(公表日): 2015年06月25日
要約:
【課題】収率が高いある特定の臭素化合物の製造方法及び該製造方法に用いる化合物の提供。【解決手段】下記で表される化合物、及び該化合物と臭素化剤とを反応させる工程を含むある特定の臭素化合物の製造方法の提供。(R1〜R6はH、ハロゲン原子、アミノ基、シア基等;Y1は-S-、-O-、-Se-又は-C(R7)=C(R8);R7及びR8はH、ハロゲン原子等;X1及びX2は-N=又は-C(R9)=;R9はH、ハロゲン原子等;Z1及びZ2はH、F等)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で表される化合物と臭素化剤とを反応させる工程を含む、下記式(2)で表される化合物の製造方法。
IPC (3件):
C07D 271/12 ,  C07F 7/12 ,  C07D 285/14
FI (3件):
C07D271/12 ,  C07F7/12 W ,  C07D285/14
Fターム (16件):
4C036AD04 ,  4C036AD13 ,  4C036AD28 ,  4C056AA01 ,  4C056AB02 ,  4C056AD03 ,  4C056AE03 ,  4C056AF04 ,  4H049VN01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ60 ,  4H049VQ74 ,  4H049VQ77 ,  4H049VR24 ,  4H049VU36 ,  4H049VW02
引用特許:
審査官引用 (3件)
引用文献:
審査官引用 (8件)
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