特許

J-GLOBAL ID：201503028540047078

酸化物薄膜及びその製造方法

発明者： 織田 真也 ,  人羅 俊実
出願人/特許権者： 株式会社FLOSFIA
代理人 (3件)： SK特許業務法人 ,  奥野 彰彦 ,  伊藤 寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-206226
公開番号（公開出願番号）：特開2015-070248
出願日： 2013年10月01日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
要約：

【課題】ドーパントの酸化数の制御を行う必要がなく、かつ過酸化水素水の添加が不要な、酸化物薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、水、薄膜原料及びドーパント原料を成膜室に供給して前記成膜室内で被成膜試料上に酸化物薄膜を形成する薄膜形成工程を備え、前記ドーパント原料は、ゲルマニウムを含み、前記薄膜は、ゲルマニウムを含む、酸化物薄膜の製造方法が提供される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

水、薄膜原料及びドーパント原料を成膜室に供給して前記成膜室内で被成膜試料上に酸化物薄膜を形成する薄膜形成工程を備え、 前記ドーパント原料は、ゲルマニウムを含み、前記薄膜は、ゲルマニウムを含む、酸化物薄膜の製造方法。

IPC (6件)：

H01L 21/365 ,  C23C 16/40 ,  C30B 29/16 ,  C30B 25/00 ,  C30B 29/22 ,  H01L 21/368

FI (6件)：

H01L21/365 ,  C23C16/40 ,  C30B29/16 ,  C30B25/00 ,  C30B29/22 A ,  H01L21/368 Z

Fターム (75件)：

4G077AA03 ,  4G077BB01 ,  4G077BB10 ,  4G077BC01 ,  4G077BC60 ,  4G077DB01 ,  4G077DB11 ,  4G077EB01 ,  4G077EC04 ,  4G077TA04 ,  4G077TH01 ,  4K030AA01 ,  4K030AA02 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030AA20 ,  4K030BA02 ,  4K030BA08 ,  4K030BA11 ,  4K030BA42 ,  4K030BB02 ,  4K030BB03 ,  4K030CA05 ,  4K030CA17 ,  4K030DA09 ,  4K030EA01 ,  4K030FA10 ,  4K030LA15 ,  5F045AB40 ,  5F045AC02 ,  5F045AC03 ,  5F045AC04 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AD12 ,  5F045AD13 ,  5F045AD14 ,  5F045AD15 ,  5F045AD16 ,  5F045AD17 ,  5F045AD18 ,  5F045AF02 ,  5F045AF04 ,  5F045AF06 ,  5F045AF07 ,  5F045AF09 ,  5F045CA05 ,  5F045CA07 ,  5F045CA09 ,  5F045CA13 ,  5F045CA15 ,  5F045DP04 ,  5F045DP07 ,  5F045EK06 ,  5F045HA16 ,  5F045HA18 ,  5F053AA50 ,  5F053BB60 ,  5F053DD20 ,  5F053FF01 ,  5F053GG01 ,  5F053HH04 ,  5F053HH05 ,  5F053KK02 ,  5F053LL01 ,  5F053LL04 ,  5F053LL10 ,  5F053PP03