特許
J-GLOBAL ID：201503029474628907
スロープ及び該スロープの形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池田 憲保
, 福田 修一
, 佐々木 敬
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012070585
公開番号（公開出願番号）：WO2013-022112
出願日： 2012年08月07日
公開日（公表日）： 2013年02月14日
要約：
本発明の課題は、高精度の位置合わせが可能なステンシル形成と、エッチングとにより、基板上に数100μm以上の長さのスロープを高精度に形成でき、更に、スロープと共に他のパターンの集積が化可能な、スロープ及びその形成方法を提供することにある。本発明では、基板1上に、有限の厚みを有する支持パターン2を形成し、少なくとも支持パターン2の近傍では支持パターン2の上面のみに接し、一部がその上面からはみ出すように、支持パターンに感光性フィルム3を貼付し、支持パターン2を含むか、あるいは支持パターン2の境界を跨ぐ領域を露光し、感光性フィルム3を現像して、感光性フィルム3の庇パターン301を形成し、基板1をドライエッチングし、支持パターン2と庇パターン301とを除去する。(図1)
請求項（抜粋）：
基板上に、有限の厚みを有する支持パターンを形成する(a)と、
少なくとも前記支持パターンの近傍では前記支持パターンの上面のみに接し、一部がその上面からはみ出すように、前記支持パターンに感光性フィルムを貼付する(b)と、
前記支持パターンを含むか、あるいは前記支持パターンの境界を跨ぐ領域を露光する(c)と、
前記感光性フィルムを現像して、前記感光性フィルムの庇パターンを形成する(d)と、
前記基板をドライエッチングする(e)と、
前記支持パターンと前記庇パターンとを除去する(f)と、を含むことを特徴とするスロープの形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
2H147AB24
, 2H147BA05
, 2H147BB02
, 2H147BB03
, 2H147EA13A
, 2H147EA13C
, 2H147EA14B
, 2H147FA17
, 2H147FB04
, 2H147FC05
