特許
J-GLOBAL ID：201503029497947350

複合金属ガス分離膜を作製する方法

発明者：
ソウカイティス,ジョン・チャールズ

ソウカイティス,ジョン・チャールズ について


出願人/特許権者：
シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー

シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー について


代理人 (1件)： 特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-549172
公開番号（公開出願番号）：特表2015-502253
出願日： 2012年12月17日
公開日（公表日）： 2015年01月22日
要約：
金属膜層を上に堆積させた多孔質支持体材料を用意し、化学的活性化溶液を使用することなく、その金属膜層の表面上に、後続の金属膜層のその上への配置を増強する表面活性化を提供する研削パターンおよび比較的高い表面粗さを含む、ある特定の表面特性を付与することによって、複合ガス分離モジュールを作製する方法。複合ガス分離モジュールは、水素含有ガス流からの水素の分離に有用である。
請求項（抜粋）：
複合ガス分離モジュールを作製する方法であって、 表面を有する金属膜層を上に有する多孔質支持体を用意するステップ; 後続金属膜層を上に配置させるために活性化特性を増強させた活性化表面を提供する表面形態を、研削媒体の使用により、前記金属膜層の表面上に付与するステップであり、前記活性化表面が、研削パターンおよび0.8ミクロン超から最大2.5ミクロンの範囲の平均表面粗さ(Sa)を有するステップ; 化学的活性化溶液を用いるさらなる活性化なしに、前記活性化表面上に前記後続金属膜層を配置させるステップ;ならびに 前記後続金属膜層をアニーリングして、アニーリング済み金属膜層を提供するステップ を含む方法。
IPC (5件)：
B01D 71/02 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/00 ,  B01D 69/12 ,  B01D 69/10
FI (5件)：
B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  B01D69/00 ,  B01D69/12 ,  B01D69/10
Fターム (20件)：
4D006GA41 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03 ,  4D006NA31 ,  4D006NA45 ,  4D006NA49 ,  4D006NA50 ,  4D006NA63 ,  4D006NA65 ,  4D006PB64 ,  4D006PB65 ,  4D006PB66 ,  4D006PB68
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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