特許

J-GLOBAL ID：201503033150642920

植物工場における環境制御方法

発明者： 土田 広
出願人/特許権者： 株式会社日立ソリューションズ
代理人 (1件)： 小川 眞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-199566
公開番号（公開出願番号）：特開2015-062395
出願日： 2013年09月26日
公開日（公表日）： 2015年04月09日
要約：

【課題】 植物工場の露地農場に近い環境での育成と植物工場を制御するために必要な環境情報の入手を支援する。【解決手段】 植物プラントの環境制御装置が、複数の露地農場に設置した露地農場環境情報収集装置から、露地で測定される現在の気象データを取得し、当該気象データを用いて植物工場の植物プラントを制御する環境情報を取得し、環境データとして蓄積する第1のステップと、取得した露地農場の環境情報を植物工場の植物プラントへ即時に反映し、植物工場の環境を露地に近づけることにより、植物工場内で露地に近い環境で植物の育成する第2のステップを実行し、植物プラントにおける植物の育成環境を制御することを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

複数の露地農場に設置した露地農場環境情報取得装置で計測した環境情報を植物工場の植物プラントの環境制御装置に入力し、植物プラントの環境を露地農場環境に近づける制御方法であって、 前記植物プラントの環境制御装置が、複数の露地農場に設置した露地農場環境情報収集装置から、露地で測定される現在の気象データを取得し、当該気象データを用いて植物工場の植物プラントを制御する環境情報を取得し、環境データとして蓄積する第1のステップと、取得した露地農場の環境情報を植物工場の植物プラントへ即時に反映し、植物工場の環境を露地に近づけることにより、植物工場内で露地に近い環境で植物の育成する第2のステップを実行し、植物プラントにおける植物の育成環境を制御することを特徴とする植物工場における植物プラントの環境制御制御方法。

IPC (1件)：

A01G 7/00

FI (2件)：

A01G7/00 601Z ,  A01G7/00 603

Fターム (5件)：

2B022AA01 ,  2B022DA01 ,  2B022DA17 ,  2B022DA19 ,  2B022DA20