特許

J-GLOBAL ID：201503033434700319

細胞培養装置および細胞培養方法

発明者： 中嶌 亮太 ,  松岡 志津 ,  小林 豊茂
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (3件)： 井上 学 ,  戸田 裕二 ,  岩崎 重美
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012066103
公開番号（公開出願番号）：WO2013-002158
出願日： 2012年06月25日
公開日（公表日）： 2013年01月03日
要約：

組織を形成する幹細胞または前駆細胞を培養する培養領域を有する細胞培養装置であって、前記培養領域内の酸素供給量を調節する酸素調節部と、前記酸素調節部を制御する制御部と、前記細胞の培養期間のうち、前記幹細胞または前駆細胞が自己複製する期間内の第一の期間における第一の酸素供給量と、前記幹細胞または前駆細胞が分化する期間を含む第二の期間における、前記第一の酸素供給量よりも多い酸素供給量の第二の酸素供給量と、を制御し、前記幹細胞または前駆細胞の自己複製による増殖の度合いに基づいて、前記第一の酸素供給量を前記第二の酸素供給量に変更するよう、前記酸素調節部を制御する制御部と、を有することを特徴とする細胞培養装置。

請求項（抜粋）：

組織を形成する幹細胞または前駆細胞を培養する培養領域を有する細胞培養装置であって、 前記培養領域内の酸素供給量を調節する酸素調節部と、 前記酸素調節部を制御する制御部と、 前記細胞の培養期間のうち、 前記幹細胞または前駆細胞が自己複製する期間内の第一の期間における第一の酸素供給量と、 前記幹細胞または前駆細胞が分化する期間を含む第二の期間における、前記第一の酸素供給量よりも多い酸素供給量の第二の酸素供給量と、 を制御し、 前記幹細胞または前駆細胞の自己複製による増殖の度合いに基づいて、前記第一の酸素供給量を前記第二の酸素供給量に変更するよう、前記酸素調節部を制御する制御部と、 を有することを特徴とする細胞培養装置。

IPC (1件)：

C12M 3/00

FI (1件)：

C12M3/00 Z

Fターム (7件)：

4B029AA01 ,  4B029AA23 ,  4B029BB11 ,  4B029CC01 ,  4B029CC02 ,  4B029DF04 ,  4B029DG10