特許

J-GLOBAL ID：201503033987262140

プラズマ発生用アンテナ、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： 小松 智仁 ,  池田 太郎 ,  河西 繁
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012081570
公開番号（公開出願番号）：WO2013-089007
出願日： 2012年12月05日
公開日（公表日）： 2013年06月20日
要約：

同軸導波管を伝送されたマイクロ波を処理容器内に放射し、処理容器内の金属面に伝搬させてガスをプラズマ化させることにより表面波プラズマを生成するためのプラズマ発生用アンテナを提供する。プラズマ発生用アンテナは、前記プラズマ発生用アンテナ内にガスを流すガス経路と、前記ガス経路に連通し、前記ガス経路を通過したガスを処理容器内に導入する複数のガス孔と、前記ガス経路と分離した状態で前記ガス経路を貫通し、同軸導波管を介して遅波板を透過したマイクロ波を通し、処理容器内に放射する複数のスロットとを備え、隣接するスロット間は、処理容器内のプラズマ生成空間へ開口する部分の間隔WBよりも前記ガス経路を貫通する部分の間隔WAが広くなっている。

請求項（抜粋）：

同軸導波管を伝送されたマイクロ波を処理容器内に放射し、前記処理容器内の金属面に伝搬させてガスをプラズマ化し、表面波プラズマを生成するためのプラズマ発生用アンテナであって、 前記プラズマ発生用アンテナ内にガスを流すガス経路と、 前記ガス経路に連通し、前記ガス経路を通過したガスを前記処理容器内に導入する複数のガス孔と、 前記ガス経路と分離した状態で前記ガス経路を貫通し、前記同軸導波管を介して遅波板を透過したマイクロ波を通して前記処理容器内に放射する複数のスロットと、を備え、 隣接するスロット間は、前記ガス経路を貫通する部分の第1の間隔が前記処理容器内のプラズマ生成空間へ開口する部分の第2の間隔よりも広くなっていることを特徴とするプラズマ発生用アンテナ。

IPC (2件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/306

FI (2件)：

H05H1/46 B ,  H01L21/302 101D

Fターム (7件)：

5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB28 ,  5F004CA06