特許
J-GLOBAL ID：201503034876989667
無電解Ni-Bめっき皮膜及び機械部品
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
曾我 道治
, 梶並 順
, 大宅 一宏
, 飯野 智史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-161663
公開番号（公開出願番号）：特開2015-030885
出願日： 2013年08月02日
公開日（公表日）： 2015年02月16日
要約：
【課題】熱処理を施さなくても、ビッカース硬度(HV)850以上の高い硬度を有し且つクラックのない無電解ニッケルめっき皮膜を提供すること。【解決手段】ホウ素を0.25重量%〜2.0重量%を含む無電解Ni-Bめっき皮膜であって、皮膜面と入射ビームとのなす角度及び皮膜面と反射ビームとのなす角度が等しい条件で行ったディフラクトメータ法によるX線回折図形においてNiの{111}面の強度F{111}とNiの{200}面の強度F{200}との比OF=F{111}/F{200}が0.1〜20の範囲内であることを特徴とする無電解Ni-Bめっき皮膜である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ホウ素を0.25重量%〜2.0重量%を含む無電解Ni-Bめっき皮膜であって、皮膜面と入射ビームとのなす角度及び皮膜面と反射ビームとのなす角度が等しい条件で行ったディフラクトメータ法によるX線回折図形においてNiの{111}面の強度F{111}とNiの{200}面の強度F{200}との比OF=F{111}/F{200}が0.1〜20の範囲内であることを特徴とする無電解Ni-Bめっき皮膜。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
4K022AA02
, 4K022BA04
, 4K022BA14
, 4K022BA32
, 4K022DA01
, 4K022DB01
, 4K022DB03
, 4K022DB04
, 4K022DB07
, 4K022DB08
, 4K022DB28
, 4K022DB29
, 4K022EA01
