特許
J-GLOBAL ID：201503039043785636
亜酸化窒素含有ガスの処理方法及び処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
松井 茂
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-063743
公開番号（公開出願番号）：特開2011-224552
特許番号：特許第5711017号
出願日： 2011年03月23日
公開日（公表日）： 2011年11月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 亜酸化窒素含有ガス中の亜酸化窒素を還元して処理する亜酸化窒素含有ガスの処理方法であって、
ベータ型及び/又はモルデナイト型のゼオライトにコバルトを担持させた触媒を充填した第1の触媒層に、該触媒層の温度が-30〜50°Cの温度下で亜酸化窒素含有ガスを導入して前記触媒に亜酸化窒素含有ガス中の亜酸化窒素を吸着させる吸着工程と、
前記吸着工程後の前記第1の触媒層を100〜250°Cに調整し、キャリアガスを導入して、前記触媒が吸着した亜酸化窒素を脱離させる脱離工程と、
前記触媒から脱離した亜酸化窒素を含むガスを、350〜500°Cに調整された、ベータ型及び/又はモルデナイト型のゼオライトにコバルトを担持させた触媒が充填された第2の触媒層に導入して、亜酸化窒素を還元する還元工程とを有することを特徴とする亜酸化窒素含有ガスの処理方法。
IPC (7件)：
B01D 53/94 ( 200 6.01)
, B01J 29/76 ( 200 6.01)
, B01J 29/24 ( 200 6.01)
, B01J 20/34 ( 200 6.01)
, B01J 20/18 ( 200 6.01)
, B01D 53/04 ( 200 6.01)
, B01D 53/02 ( 200 6.01)
B01D 53/36 102 D
, B01J 29/76 ZAB A
, B01J 29/24 A
, B01J 20/34 H
, B01J 20/18 E
, B01D 53/04 F
, B01D 53/02 Z
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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