パターン位相差フィルムの製造方法、パターン位相差フィルム及び画像表示装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：正林真之 , 芝哲央 , 林一好 , 鎌田久男
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012071783
公開番号（公開出願番号）：WO2013-031802
出願日： 2012年08月29日
公開日（公表日）： 2013年03月07日
要約：

パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、高い精度により簡易かつ大量に作製することができるパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。露光処理する領域幅に比してスリットを幅狭にして、露光処理に供するマスク16を作製する。

請求項（抜粋）：

長尺による透明フィルム材を搬送しながら順次処理してパターン位相差フィルムを作製するパターン位相差フィルムの製造方法において、前記透明フィルム材に、光配向材料膜を作製する光配向材料膜作製工程と、マスクを用いた前記光配向材料膜の露光処理により、光配向の手法を適用して配向膜を作製する露光工程と、前記配向膜の上に、右目用の透過光に対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に対応する位相差を与える左目用の領域とによる位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、前記露光工程は、 1回目の露光処理において、前記マスクを用いて前記光配向材料膜を選択的に露光処理した後、2回目の露光処理において、全面に光を照射して、前記1回目の露光処理で未露光の領域を露光処理することにより、前記右目用の領域又は左目用の領域に対応する部位の、前記光配向材料膜を配向させた後、前記左目用の領域又は右目用の領域に対応する部位の、前記光配向材料膜を配向させて前記配向膜を作製し、前記マスクは、 1回目の露光処理に供する領域幅に比して対応するスリットが幅狭に作製されたことを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/30 , G02F 1/133 , G09F 9/00

FI (5件)：

G02B5/30 , G02F1/13363 , G09F9/00 338 , G09F9/00 361 , G09F9/00 313

Fターム (25件)：

2H149AA02 , 2H149AA20 , 2H149DA02 , 2H149DB06 , 2H149DB13 , 2H191FA22X , 2H191FA30X , 2H191FB05 , 2H191FC10 , 2H191FC33 , 2H191FD04 , 2H191FD12 , 2H191FD35 , 2H191GA08 , 2H191LA13 , 2H191MA01 , 2H290BA30 , 2H290BF24 , 2H290CA03 , 2H290CB24 , 5G435AA17 , 5G435BB12 , 5G435CC11 , 5G435FF01 , 5G435KK07

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