特許
J-GLOBAL ID：201503040259298916
ウエハーエッチング装置及びこれを用いたウエハーエッチング方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-547083
公開番号（公開出願番号）：特表2015-503243
出願日： 2012年10月23日
公開日（公表日）： 2015年01月29日
要約：
本発明はSiウエハーをドライ方式に高速でエッチングできるウエハーエッチング装置及びそれを用いたウエハーエッチング方法を提供する。前記ウエハーエッチング装置及びそれを用いたウエハーエッチング方法は容量結合形プラズマユニットまたは誘導結合形プラズマユニットとリモートプラズマユニットを同時に装着してウエハーを高速でエッチングして前記ウエハーのエッチング作業時間を大幅に短縮させることができ、チャックの上部面が不均一な表面を有するように荒く加工されて上部面とウエハーとの間に微細空間が形成されるようにして前記微細空間を通じて冷却ガスであるヘリウムガスを供給して前記ウエハーを冷却できるようにすることにより、前記グルーブによって発生される所望しない微細空間によるプラズマが発生される現象を防止して不必要なプラズマによってウエハーが損傷される現象を防止することができる。
請求項（抜粋）：
ウエハーの安着されるチャックが内部に設置されたプロセスチャンバーと、
前記プロセスチャンバーに連結されて高圧の第1エッチングガスを前記プロセスチャンバー内部に噴射して広い表面のウエハーを高速でエッチングする第1プラズマユニットと、
前記プロセスチャンバーに連結されて低圧の第2エッチングガスを前記プロセスチャンバー内部に噴射して前記ウエハーの応力除去及び銅ピラーを形成すると同時に前記ウエハー表面を所望する荒さとなるようにエッチングする第2プラズマユニットと、を含むことを特徴とするウエハーエッチング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 105B
, H05H1/46 L
5F004AA01
, 5F004AA06
, 5F004AA11
, 5F004BA03
, 5F004BA04
, 5F004BA11
, 5F004BA20
, 5F004BB25
, 5F004CA02
, 5F004DA00
, 5F004DA17
, 5F004DA18
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA25
, 5F004DA26
, 5F004DB01
, 5F004DB08
, 5F004EB02
, 5F004EB08
