特許
J-GLOBAL ID：201503041478144564
ダブルパターニングのレイアウト設計方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-129432
公開番号（公開出願番号）：特開2015-007979
出願日： 2014年06月24日
公開日（公表日）： 2015年01月15日
要約：
【課題】ダブルパターニングのレイアウト設計方法を提供する。【解決手段】ダブルパターニングのレイアウト設計方法は、スキメティク回路を設計し、前記スキメティク回路上の第1パスと第2パスを含むクリティカルパスを定義して設計し、第1カラーの第1マスクレイアウトと第2カラーの第2マスクレイアウトに分離し、前記スキメティク回路に対応するダブルパターニングのレイアウトを設計することを含み、前記ダブルパターニングのレイアウトを設計することは、前記スキメティク回路上の前記クリティカルパスをアンカーリングすることを含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
スキメティク回路を設計し、前記スキメティク回路上の第1パスと第2パスを含むクリティカルパスを定義して設計し、
第1カラーの第1マスクレイアウトと第2カラーの第2マスクレイアウトに分離し、前記スキメティク回路に対応するダブルパターニングのレイアウトを設計することを含み、
前記ダブルパターニングのレイアウトを設計することは、前記スキメティク回路上の前記クリティカルパスをアンカーリングすることを含むダブルパターニングのレイアウト設計方法。
IPC (3件)：
G06F 17/50
, H01L 21/027
, G03F 7/20
G06F17/50 658M
, H01L21/30 502C
, G03F7/20 501
2H097AA12
, 5B046AA08
, 5B046BA06
, 5B046JA01
, 5F146AA13
