特許
J-GLOBAL ID：201503041513589353

合成石英ガラスを製造する方法

発明者：
ファビアン,ハインツ

ファビアン,ハインツ について


出願人/特許権者：
ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト

ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト について

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信越石英株式会社

信越石英株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-542828
公開番号（公開出願番号）：特表2015-502317
出願日： 2012年11月22日
公開日（公表日）： 2015年01月22日
要約：
合成石英ガラスを製造する方法 合成石英ガラスを製造する公知の方法は、主要な成分としてオクタメチルシクロテトラシロキサンD4を含有する、液体SiO2原料を供給する工程と、SiO2原料を原料蒸気に気化させる工程と、原料蒸気をSiO2粒子に変化させる工程と、多孔質SiO2スート体を形成しながら、堆積表面にSiO2粒子を堆積させる工程と、合成石英ガラスを形成しながら、SiO2スート体をガラス化する工程とを含む。ここから出発して、向上した材料均質性を有し、外径が300mmより大きい大型の円筒型スート体を製造するために、本発明により、重量分率がmD3である、ヘキサメチルシクロトリシロキサンD3及びその直鎖同族体と、重量分率がmD6である、デカメチルシクロヘキサシロキサンD6及びその直鎖同族体と、重量分率がmD7+である、テトラデカメチルシクロヘプタシロキサンD7及び/又はヘキサデカメチルシクロオクタシロキサンD8及びそれらの直鎖同族体とを含む付加的成分を含有し、mD3/mD6の重量比が0.05〜90の範囲内であり、重量分率mD7+が少なくとも20重量ppmである液体原料が提案される。
請求項（抜粋）：
(a)主要な成分としてオクタメチルシクロテトラシロキサンD4を含有する、液体SiO2原料(105)を供給する工程と、 (b)前記SiO2原料(105)を原料蒸気(107)に気化させる工程と、 (c)前記原料蒸気をSiO2粒子(148)に変化させる工程と、 (d)多孔質SiO2スート体(200)を形成しながら、堆積表面(160)に前記SiO2粒子(148)を堆積させる工程と、 (e)合成石英ガラスを形成しながら、前記SiO2スート体(200)をガラス化する工程と を含む合成石英ガラスを製造する方法であって、 前記液体原料(105)は、重量分率がmD3である、ヘキサメチルシクロトリシロキサンD3及びその直鎖同族体と、重量分率がmD6である、デカメチルシクロヘキサシロキサンD6及びその直鎖同族体と、重量分率がmD7+である、テトラデカメチルシクロヘプタシロキサンD7及び/又はヘキサデカメチルシクロオクタシロキサンD8及びそれらの直鎖同族体とを含む付加的成分を含有し、mD3/mD6の重量比が0.05〜90の範囲内であり、前記重量分率mD7+が少なくとも20重量ppmであることを特徴とする方法。
IPC (1件)：
C03B 37/018
FI (1件)：
C03B37/018 C
Fターム (3件)：
4G021EA03 ,  4G021EB01 ,  4G021EB11
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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