特許
J-GLOBAL ID：201503042304788710
スルホン酸基含有共重合体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-059347
公開番号（公開出願番号）：特開2013-117038
特許番号：特許第5646676号
出願日： 2013年03月22日
公開日（公表日）： 2013年06月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記一般式(s-1)で表されるスルホン酸基含有単量体由来の構造(S1)、
下記一般式(p-1)および/または下記一般式(p-3)で表されるポリオキシアルキレン系単量体由来の構造(それぞれP1、P3)、
アクリル酸由来の構造(C1)、
を有するスルホン酸基含有共重合体であって、
共重合体の全単量体由来の構造の質量100質量%に対するスルホン酸基含有単量体由来の構造(S1)の組成が、5〜45質量%(酸型換算)であり、
共重合体の全単量体由来の構造の質量100質量%に対するポリオキシアルキレン系単量体由来の構造(P1とP3の合計)の組成が5〜45質量%であり、
共重合体の全単量体由来の構造の質量100質量%に対するアクリル酸由来の構造(C1)の組成が10〜90質量%(酸型換算)であり、
数平均分子量が100〜20000である、
スルホン酸基含有共重合体。
一般式(s-1)において、R1は、CH2を表し、R2は、水素原子、メチル基を表し、X、Yは、水酸基又はSO3M基を表し、SO3M基において、Mは、水素原子、Li、Na、Kを表し、但し、X、Yのいずれか一方は、SO3M基を表す、
上記一般式(p-1)において、R1は水素原子または、メチル基を表し、R2は、CH2、CH2CH2、X0は、下記一般式(P2)で表される構造を表す、
上記一般式(P2)において、Zは、炭素数2〜3のアルキレンオキシド由来の構造を表し、R0は水素原子を表し、nは、アルキレンオキシド由来の構造単位の繰り返しの数であり、1〜200の数である。
さらに、上記一般式(P2)において、Znは、オキシエチレン基を主体とし、
全オキシアルキレン基100モル%中のオキシエチレン基のモル%が、50〜100モル%である。
上記一般式(p-3)において、R1は水素原子または、メチル基を表し、X1、X2は、水酸基または下記一般式(P4)で表される構造を表し、少なくともX1、X2のいずれか一方は下記一般式(P4)で表される構造を表わす、
上記一般式(P4)において、Zは、炭素数2〜3のアルキレンオキシド由来の構造を表し、R0は水素原子を表し、nは、アルキレンオキシド由来の構造単位の繰り返しの数であり、1〜200の数である。
さらに、上記一般式(P4)において、Znは、オキシエチレン基を主体とし、
全オキシアルキレン基100モル%中のオキシエチレン基のモル%が、50〜100モル%である。
IPC (3件)：
C08F 290/06 ( 200 6.01)
, C08F 220/04 ( 200 6.01)
, C08F 216/14 ( 200 6.01)
C08F 290/06
, C08F 220/04
, C08F 216/14
