特許
J-GLOBAL ID：201503042778544641
EUV照明均一性二重補正システムおよび方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-089438
公開番号（公開出願番号）：特開2012-222363
特許番号：特許第5650685号
出願日： 2012年04月10日
公開日（公表日）： 2012年11月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
前記調整された放射ビームにパターンを付与するパターニングデバイスを支持するサポート構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備え、
前記照明システムは、放射ビームに照らされたとき実質的に一定の瞳を受ける面上に配置される均一性補正システムを備え、該均一性補正システムは、
放射ビームの各部分の照度を補正するために放射ビームとの交差の内側および外側へと移動可能であるフィンガと、
前記フィンガのうちの対応するフィンガと結合され、対応するフィンガを動かす作動デバイスとを含み、
各フィンガの先端の幅は、前記作動デバイスの幅よりも大きく、
前記フィンガは、第1、第2、第3、第4グループにグループ化されてそれぞれ第1、第2、第3、第4の面に配置され、前記第1から第4の面はこれらの面に垂直な方向に沿って互いに隔てられ、隣り合うフィンガが重なり合うように各フィンガの幅はフィンガ間の間隔よりも大きいことを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
H01L 21/30 515 E
, H01L 21/30 518
, H01L 21/30 516 D
, H01L 21/30 531 A
, G03F 7/20 521
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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