特許
J-GLOBAL ID:201503046289499981
半導体集積回路装置およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
筒井 大和
, 菅田 篤志
, 筒井 章子
, 坂次 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-148185
公開番号(公開出願番号):特開2015-023075
出願日: 2013年07月17日
公開日(公表日): 2015年02月02日
要約:
【課題】eDRAMのチップサイズの小型化を実現させる。【解決手段】ロジック回路領域Lを第1マスクPR6で覆った状態で、DRAMのメモリアレイ領域Mに設けたマスク膜MSKにエッチバックを施すことにより、選択MISFETのソースおよびドレイン上のシリサイドブロック膜SBLを残しながら、ゲート電極G1上のシリサイドブロック膜SBLを選択的に除去する。メモリアレイ領域Mを第2マスクで覆った状態で、ロジック回路領域LのMISFETのゲート電極G2表面およびソースおよびドレイン表面のシリサイドブロック膜SBLを除去する。そして、このシリサイドブロック膜SBLを利用して、選択MISFETのゲート電極G1、ロジック回路領域LのMISFETのゲート電極G2、および、ロジック回路領域LのMISFETのソースおよびドレインにシリサイド膜を形成する。【選択図】図14
請求項(抜粋):
第1MISFETと第1容量素子が直列接続されてなるDRAMセルが行列状に複数配置されたメモリアレイ領域と、複数の第2MISFETが配置されたロジック回路領域とを有し、前記第1MISFETは、第1ゲート電極と第1ソース領域および第1ドレイン領域を有し、前記第2MISFETは、第2ゲート電極と第2ソース領域および第2ドレイン領域を有する半導体集積回路装置の製造方法であって、
(a)その主面に、前記メモリアレイ領域と、前記ロジック回路領域とを有する半導体基板を準備する工程、
(b)前記メモリアレイ領域において、前記半導体基板の主面上に、前記第1ゲート電極となる、第1上面と第1側面を有する第1シリコン片を、前記ロジック回路領域において、前記半導体基板の主面上に、前記第2ゲート電極となる、第2上面と第2側面を有する第2シリコン片を形成する工程、
(c)前記メモリアレイ領域において、前記半導体基板の主面に、前記第1ソース領域および前記第1ドレイン領域となる、第1主面を有する一対の第1半導体領域を、前記ロジック回路領域において、前記半導体基板の主面に、前記第2ソース領域および前記第2ドレイン領域となる、第2主面を有する一対の第2半導体領域を形成する工程、
(d)前記メモリアレイ領域および前記ロジック回路領域において、前記半導体基板の前記主面上に、前記第1シリコン片の前記第1上面、前記第1半導体領域の前記第1主面、前記第2シリコン片の前記第2上面および前記第2半導体領域の前記第2主面を覆う第1絶縁膜を形成する工程、
(e)前記第1シリコン片および前記第1半導体領域を覆うように、前記第1絶縁膜上にマスク膜を形成する工程、
(f)前記ロジック回路領域を覆い、前記メモリアレイ領域を露出した第1ホトレジスト膜を設けた状態で、前記マスク膜に第1エッチングを施し、前記第1シリコン片の前記第1上面において、前記第1絶縁膜を露出させる工程、
(g)前記マスク膜から露出した前記第1絶縁膜に第2エッチングを施し、前記第1シリコン片の前記第1上面を露出する工程、
(h)前記メモリアレイ領域を覆い、前記ロジック回路領域を露出した第2ホトレジスト膜を設けた状態で、前記ロジック回路領域の前記第1絶縁膜に第3エッチングを施し、前記第2シリコン片の前記第2上面および前記第2半導体領域の前記第2主面を露出する工程、
(i)前記第1半導体領域の前記第1主面は、前記第1絶縁膜で覆われた状態で、前記第1絶縁膜から露出した、前記第1シリコン片の前記第1上面、前記第2シリコン片の前記第2上面および前記第2半導体領域の前記第2主面にシリサイド膜を形成する工程、
を有する半導体集積回路装置の製造方法。
IPC (3件):
H01L 27/10
, H01L 21/824
, H01L 27/108
FI (3件):
H01L27/10 461
, H01L27/10 481
, H01L27/10 621C
Fターム (38件):
5F083AD10
, 5F083AD24
, 5F083AD48
, 5F083AD49
, 5F083BS00
, 5F083GA02
, 5F083GA06
, 5F083GA09
, 5F083GA27
, 5F083HA01
, 5F083HA02
, 5F083JA35
, 5F083JA38
, 5F083JA39
, 5F083JA40
, 5F083JA53
, 5F083JA56
, 5F083KA01
, 5F083KA05
, 5F083LA25
, 5F083MA03
, 5F083MA06
, 5F083MA16
, 5F083MA17
, 5F083MA19
, 5F083MA20
, 5F083NA01
, 5F083PR01
, 5F083PR40
, 5F083PR43
, 5F083PR44
, 5F083PR53
, 5F083PR54
, 5F083PR57
, 5F083ZA01
, 5F083ZA13
, 5F083ZA14
, 5F083ZA28
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