特許
J-GLOBAL ID:201503048029626397
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-215118
公開番号(公開出願番号):特開2015-107957
出願日: 2014年10月22日
公開日(公表日): 2015年06月11日
要約:
【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)でレジストパターンを製造することができる塩を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。m及びnは、それぞれ独立に、1又は2を表す。mが2のとき、2つのR1は同一又は相異なり、nが2のとき、2つのR2は同一又は相異なる。Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよいヘテロ芳香族炭化水素基を表す。A-及びA’ -は、それぞれ独立に、有機アニオンを表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される塩。
IPC (7件):
C07D 339/06
, G03F 7/004
, G03F 7/038
, G03F 7/039
, C09K 3/00
, C07D 339/08
, H01L 21/027
FI (7件):
C07D339/06
, G03F7/004 503A
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, C09K3/00 K
, C07D339/08
, H01L21/30 502R
Fターム (34件):
2H125AF14P
, 2H125AF16P
, 2H125AF18P
, 2H125AF26P
, 2H125AF27P
, 2H125AF37P
, 2H125AF38P
, 2H125AF41P
, 2H125AF70P
, 2H125AH15
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AM23P
, 2H125AM27P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 2H125FA05
, 4C023NA01
, 4C023PA07
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