特許

J-GLOBAL ID：201503051067060047

ガス分離膜およびその製造方法ならびにガス分離膜モジュール

発明者： 木原 史織 ,  狩野 賢志
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-201334
公開番号（公開出願番号）：特開2015-066484
出願日： 2013年09月27日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
要約：

【課題】耐傷性が高く分離選択性が低下し難いガス分離膜の提供。【解決手段】樹脂を含む分離層と、該分離層上に形成された保護層とを具備するガス分離膜であって、分離層の保護層側の酸素原子比率(単位:%)が分離層の保護層とは反対側の酸素原子比率(単位:%)と比べて10%以上大きいガス分離膜。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

樹脂を含む分離層と、該分離層上に形成された保護層とを具備するガス分離膜であって、 前記分離層の前記保護層側の酸素原子比率(単位:%)が前記分離層の前記保護層とは反対側の酸素原子比率(単位:%)と比べて10%以上大きいガス分離膜。

IPC (9件)：

B01D 69/02 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/64 ,  B01D 71/62 ,  B01D 71/16 ,  B01D 71/52 ,  B01D 71/70 ,  B01D 67/00

FI (9件)：

B01D69/02 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/64 ,  B01D71/62 ,  B01D71/16 ,  B01D71/52 ,  B01D71/70 ,  B01D67/00 500

Fターム (47件)：

4D006GA41 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA61 ,  4D006HA71 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA04 ,  4D006MA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MA10 ,  4D006MA26 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB16 ,  4D006MB20 ,  4D006MC18 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC24 ,  4D006MC28 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC39 ,  4D006MC45 ,  4D006MC46 ,  4D006MC53 ,  4D006MC54 ,  4D006MC57 ,  4D006MC58X ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC65 ,  4D006NA46 ,  4D006NA61 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB19 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67 ,  4D006PB68 ,  4D006PB70