特許

J-GLOBAL ID：201503051319328099

第4級塩の除去方法

発明者： 内匠 清 ,  笹川 巨樹 ,  恵崎 陽一郎
出願人/特許権者： 荒川化学工業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013051735
公開番号（公開出願番号）：WO2013-121869
出願日： 2013年01月28日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
要約：

本発明の目的は、有機溶剤から第4級塩を効率的に除去する方法を提供することである。本発明は、第4級塩を含有する有機溶剤溶液に、アニオン性官能基を有する化合物(a1)及びカルボキシル基又はスルホン酸基を少なくとも1種以上含有する重合体(a2)からなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する水溶液を接触させ、有機溶剤から第4級塩を除去する、第4級塩の除去方法に関する。

請求項（抜粋）：

第4級塩を含有する有機溶剤溶液に、アニオン性官能基を有する化合物(a1)及びカルボキシル基又はスルホン酸基を少なくとも1種以上含有する重合体(a2)からなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する水溶液を接触させ、有機溶剤から第4級塩を除去する、第4級塩の除去方法。

IPC (1件)：

B01D 11/04

FI (1件)：

B01D11/04 C

Fターム (9件)：

4D056AB17 ,  4D056AC09 ,  4D056AC20 ,  4D056AC22 ,  4D056AC29 ,  4D056BA03 ,  4D056CA01 ,  4D056CA39 ,  4D056DA05