特許
J-GLOBAL ID：201503053881306017

セル、セルスタック装置、モジュールおよびモジュール収納装置

発明者：
岩本 隆幸

岩本 隆幸 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-219383
公開番号（公開出願番号）：特開2015-082389
出願日： 2013年10月22日
公開日（公表日）： 2015年04月27日
要約：
【課題】 インターコネクタ層の剥離を抑制できる電解セル、電解セルスタック装置、電解モジュールおよび電解装置を提供する。【解決手段】 支持体1に、Niを含有する第1電極層3、セラミックスからなる固体電解質層4および第2電極層5を順次形成してなり、支持体1の第1電極層が形成されていない部分に、第1電極層3と電気的に接続するランタンクロマイト系酸化物からなるインターコネクタ層8を設けてなるとともに、該インターコネクタ層8が、支持体1側の内側層8aと、該内側層8aの外側に設けられた外側層8bとを具備し、外側層8bが、内側層8aよりも多孔質である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
支持体に、Niを含有する第1電極層、セラミックスからなる固体電解質層および第2電極層を順次形成してなり、前記支持体の前記第1電極層が形成されていない部分に、前記第1電極層と電気的に接続するランタンクロマイト系酸化物からなるインターコネクタ層を設けてなるとともに、該インターコネクタ層が、前記支持体側の内側層と、該内側層の外側に設けられた外側層とを具備し、前記外側層が、前記内側層よりも多孔質であることを特徴とする電解セル。
IPC (4件)：
H01M 8/02 ,  H01M 8/12 ,  H01M 8/24 ,  C25B 9/00
FI (6件)：
H01M8/02 E ,  H01M8/02 Y ,  H01M8/12 ,  H01M8/24 E ,  H01M8/24 Z ,  C25B9/00 A
Fターム (14件)：
4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021DB11 ,  4K021DB18 ,  4K021DB19 ,  4K021DB40 ,  4K021DC05 ,  5H026AA06 ,  5H026CC06 ,  5H026CV02 ,  5H026CX01 ,  5H026CX10 ,  5H026EE02 ,  5H026EE13
引用特許：
審査官引用 (5件)
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