特許
J-GLOBAL ID：201503059213528545
基板処理装置、洗浄用治具、洗浄用治具セット、および洗浄方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-176352
公開番号（公開出願番号）：特開2015-046461
出願日： 2013年08月28日
公開日（公表日）： 2015年03月12日
要約：
【課題】洗浄液の飛散勢いを調節可能な、基板処理装置、洗浄用治具、洗浄用治具セット、および洗浄方法を提供する。【解決手段】洗浄用治具80の複数の吐出口83のそれぞれの吐出軸83a(略円柱形状たる吐出口83の中心軸)は、スピンモータ22による回転の遠心方向から傾いて各吐出口の回転接線の前方側に指向している。また、この指向性は、回転する洗浄用治具80に洗浄液を供給した状態で回転速度を減速する減速工程における、洗浄用治具80の底面に対する純水の相対運動の軌跡(矢印AR2)と対応する。このため、加速工程および定速工程では、洗浄用治具80の液受け部81に供給された純水の一部が複数の吐出口83から吐出されつつも純水の残りは液受け部81の外周側に貯留され、減速工程では、上記貯留された純水が複数の吐出口83から勢いよく噴出する。【選択図】図15
請求項（抜粋）：
(a) 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段を回転する回転手段と、
前記基板保持手段の上方から洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記基板保持手段の周囲を取り囲むカップと、
を有する処理ユニットと、
(b) 平面視で前記基板に対応した外形サイズを有し、前記基板保持手段によって着脱自在に保持可能な洗浄用治具であって、
液受け部と、
前記洗浄液供給手段から供給される前記洗浄液を受け入れて前記液受け部に供給する供給口と、
当該洗浄用治具の外周側に沿って設けられ、前記液受け部に受けた前記洗浄液を吐出する複数の吐出口と、
を有する洗浄用治具と、
を備え、
前記複数の吐出口のそれぞれの吐出軸は、前記回転手段による回転の遠心方向から傾いて各吐出口の回転接線の前方側に指向していることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304
, H01L 21/027
H01L21/304 643Z
, H01L21/304 648Z
, H01L21/30 572B
5F146MA10
, 5F157AA73
, 5F157AB02
, 5F157AB33
, 5F157AB90
, 5F157AC01
, 5F157BB22
, 5F157BB33
, 5F157CC11
, 5F157CF93
, 5F157DB51
, 5F157DC90
