特許

J-GLOBAL ID：201503061530937994

ディップ成形用組成物およびディップ成形品

発明者： 赤羽 徹也 ,  加藤 慎二 ,  増田 浩文
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： とこしえ特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-246260
公開番号（公開出願番号）：特開2015-105281
出願日： 2013年11月28日
公開日（公表日）： 2015年06月08日
要約：

【課題】撥水性に優れ、かつ、膨潤率が低く抑えられたディップ成形品を与えるディップ成形用組成物、および該ディップ成形用組成物を用いて得られるディップ成形品を提供すること。【解決手段】カルボキシル基含有ニトリルゴム(A)のラテックス、架橋剤、ならびに、脂肪酸石鹸および/または樹脂酸石鹸(C)を含有するディップ成形用組成物およびこれを用いて得られるディップ成形品を提供する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

カルボキシル基含有ニトリルゴム(A)のラテックス、架橋剤(B)、ならびに、脂肪酸石鹸および/または樹脂酸石鹸(C)を含有するディップ成形用組成物。

IPC (5件)：

C08L 13/02 ,  C08K 5/098 ,  A41D 19/00 ,  A41D 19/04 ,  B29C 41/14

FI (5件)：

C08L13/02 ,  C08K5/098 ,  A41D19/00 A ,  A41D19/04 B ,  B29C41/14

Fターム (23件)：

3B033AB20 ,  3B033AC01 ,  3B033BA02 ,  4F205AA45 ,  4F205AB03 ,  4F205AC05 ,  4F205AG07 ,  4F205AH70 ,  4F205AJ06 ,  4F205GA08 ,  4F205GB01 ,  4F205GC01 ,  4F205GF01 ,  4F205GN13 ,  4F205GN21 ,  4F205GN29 ,  4J002AC101 ,  4J002DA046 ,  4J002EG017 ,  4J002EN036 ,  4J002EN046 ,  4J002FD146 ,  4J002FD150