特許

J-GLOBAL ID：201503063364688630

プラズマ処理装置

発明者： 是永 哲雄
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (3件)： 新居 広守 ,  寺谷 英作 ,  道坂 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-134304
公開番号（公開出願番号）：特開2015-012045
出願日： 2013年06月26日
公開日（公表日）： 2015年01月19日
要約：

【課題】反りのある基板や裏面に突出部がある基板に対し、有効にプラズマ処理を施す。【解決手段】基板200に対しプラズマ処理を行うプラズマ処理装置100であって、基体111と、蓋体112とを有する筐体101と、処理対象の基板200の背方に配置される電極体102と、電極体102と蓋体112との間に電極体102を横断するように配置され、基板200の搬送経路を形成し、プラズマ処理中の基板200を保持するレール103と、基板200の搬送中、または、プラズマ処理中においてレール103が浮き上がることを規制するフランジ状の規制部163を有し、基体111に取り付けられる規制部材106と、筐体101内にプラズマを発生させるプラズマ発生用電源部104とを備える。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

基板に対しプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、 基体と、前記基体に対し相対的に移動する蓋体とを有する筐体と、 前記基体に絶縁状態で保持され、前記筐体に収容される処理対象の基板の背方に配置される電極体と、 前記電極体と前記蓋体との間に前記電極体を横断するように配置され、基板の搬送経路を形成し、プラズマ処理中の基板を保持するレールと、 基板の搬送中、または、プラズマ処理中において前記電極体から遠ざかる方向に前記レールが所定の位置から移動することを規制するフランジ状の規制部を有し、前記電極体の周辺の前記基体に直接的、または、間接的に取り付けられる規制部材と、 前記筐体内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と を備えるプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  H05K 3/26 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

H01L21/304 645C ,  H05K3/26 A ,  H05H1/46 M

Fターム (17件)：

5E343AA02 ,  5E343AA11 ,  5E343EE08 ,  5E343EE36 ,  5E343EE46 ,  5E343FF23 ,  5E343GG11 ,  5E343GG20 ,  5F157AA02 ,  5F157AB03 ,  5F157AB26 ,  5F157AB33 ,  5F157AC01 ,  5F157BG37 ,  5F157CF46 ,  5F157CF92 ,  5F157DA43