特許
J-GLOBAL ID：201503064604605319

研磨パッド

発明者：
清水 紳司

清水 紳司 について


出願人/特許権者：
東洋ゴム工業株式会社

東洋ゴム工業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-017363
公開番号（公開出願番号）：特開2014-147995
特許番号：特許第5661130号
出願日： 2013年01月31日
公開日（公表日）： 2014年08月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 研磨層を有する研磨パッドにおいて、前記研磨層は、 イソシアネート成分及びポリエステル系ポリオールを含むプレポリマー原料組成物(a)を反応して得られるイソシアネート末端プレポリマー(A)、 イソシアネート成分及びポリエーテル系ポリオールを含むプレポリマー原料組成物(b)を反応して得られるイソシアネート末端プレポリマー(B)、及び 鎖延長剤を含むポリウレタン原料組成物の反応硬化体により形成されており、 前記ポリエーテル系ポリオールは、数平均分子量1000以下のポリエーテル系ポリオール(C)及び数平均分子量1900以上のポリエーテル系ポリオール(D)を含み、 前記反応硬化体は3相分離構造を有することを特徴とする研磨パッド。
IPC (5件)：
B24B 37/22 ( 201 2.01) ,  B24B 37/24 ( 201 2.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  C08J 5/14 ( 200 6.01) ,  C08G 18/10 ( 200 6.01)
FI (5件)：
B24B 37/00 W ,  B24B 37/00 P ,  H01L 21/304 622 F ,  C08J 5/14 ,  C08G 18/10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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