特許
J-GLOBAL ID:201503065884248407

電極組立体の製造方法及びこれにより製造される電極組立体を含む電気化学素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 相田 伸二 ,  鄭 元基 ,  相田 京子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-560872
公開番号(公開出願番号):特表2015-513195
出願日: 2013年05月23日
公開日(公表日): 2015年04月30日
要約:
本発明に係る電極組立体の製造方法は、第1電極、第1分離膜、第2電極及び第2分離膜が順次積層され、4層構造の基本単位体を形成する基本単位体形成段階及び少なくとも一つ以上の基本単位体を順次積層して単位体スタック部を形成する基本単位体積層段階を含む。【選択図】図11
請求項(抜粋):
第1電極、第1分離膜、第2電極及び第2分離膜が順次積層され、4層構造の基本単位体を形成する基本単位体形成段階;及び 少なくとも一つ以上の基本単位体を順次積層して単位体スタック部を形成する基本単位体積層段階を含む電極組立体の製造方法。
IPC (2件):
H01M 10/04 ,  H01M 2/16
FI (2件):
H01M10/04 Z ,  H01M2/16 L
Fターム (14件):
5H021BB11 ,  5H021BB12 ,  5H021CC04 ,  5H021EE02 ,  5H021EE21 ,  5H028AA05 ,  5H028BB03 ,  5H028BB04 ,  5H028BB05 ,  5H028BB19 ,  5H028CC11 ,  5H028EE04 ,  5H028EE06 ,  5H028EE08
引用特許:
審査官引用 (8件)
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