特許

J-GLOBAL ID：201503066593159870

α型水酸化ニッケルおよびその製造方法

発明者： 酒井 剛 ,  松永 直樹
出願人/特許権者： 国立大学法人 宮崎大学
代理人 (1件)： 八田国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-181414
公開番号（公開出願番号）：特開2015-048279
出願日： 2013年09月02日
公開日（公表日）： 2015年03月16日
要約：

【課題】簡便な方法により製造することができ、強アルカリ溶液中でも高い安定性を有し、電池用電極材料等に好適に用いられるα型水酸化ニッケルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】比表面積が180m2/g以上であり、かつ細孔径分布において、2〜4nmの範囲にのみ単一ピークを有する、ニッケルイオンと、チタンイオンまたはスズイオンとを含むα型水酸化ニッケルであって、前記ニッケルイオンと前記チタンイオンとの合計量を100モル%として、チタンイオンの含有量が21〜37モル%であるか、または前記ニッケルイオンと前記スズイオンとの合計量を100モル%として、スズイオンの含有量が8〜25モル%である、α型水酸化ニッケルおよびその製造方法。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

比表面積が180m2/g以上であり、かつ細孔径分布において、2〜4nmの範囲にのみ単一ピークを有する、ニッケルイオンと、チタンイオンまたはスズイオンとを含むα型水酸化ニッケルであって、 前記ニッケルイオンと前記チタンイオンとの合計量を100モル%として、チタンイオンの含有量が21〜37モル%であるか、または 前記ニッケルイオンと前記スズイオンとの合計量を100モル%として、スズイオンの含有量が8〜25モル%である、α型水酸化ニッケル。

IPC (3件)：

C01G 53/04 ,  H01M 4/52 ,  H01G 11/46

FI (3件)：

C01G53/04 ,  H01M4/52 ,  H01G11/46

Fターム (25件)：

4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC06 ,  4G048AD03 ,  4G048AE05 ,  5E078AA14 ,  5E078AB03 ,  5E078AB04 ,  5E078BA27 ,  5E078BA62 ,  5E078BA67 ,  5E078BA71 ,  5E078BB30 ,  5E078ZA02 ,  5H050AA19 ,  5H050BA11 ,  5H050CA03 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050GA12 ,  5H050HA02 ,  5H050HA06 ,  5H050HA07 ,  5H050HA10 ,  5H050HA14

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-203377   出願人：国立大学法人宮崎大学

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 高比表面積α型酸化ニッケルの新規合成法の開発