特許
J-GLOBAL ID:201503073252332626

リソグラフィツールにおいて使用される計測システムのためのファイバ伝送

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 恩田 誠 ,  恩田 博宣 ,  本田 淳
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-541276
公開番号(公開出願番号):特表2015-502032
出願日: 2012年11月08日
公開日(公表日): 2015年01月19日
要約:
リソグラフィツール内に放出ガスの流出物を提供することなく、開示した測定を行うことができるように、リソグラフィツールにおいて測定を実施するために使用される計測システム、装置および方法が記載されている。物体平面に位置決めされた物体の画像を画像平面に投影するための対物レンズと、画像平面でウェーハを支持しながら、対物レンズに対する動作を実行するためのステージと、ステージの動作に関連する光監視信号を生成するための光学センサと、金属外側コーティングを有し、光学センサに光を供給するか、または光学センサから光を収集するように配置されたガラス光ファイバとを備えたシステムが開示されている。
請求項(抜粋):
ウェーハ上のレジストを放射線に対して露出するためのリソグラフィ・システムであって、 物体平面に位置決めされた物体の画像を画像平面に投影するための対物レンズと、 該画像平面でウェーハを支持しながら、該対物レンズに対する動作を実行するためのステージと、 該ステージの該動作に関連する光監視信号を生成するための光学センサと、 金属外側コーティングを有し、該光学センサに光を供給するか、または該光学センサから光を収集するように配置されたガラス光ファイバと を備えるシステム。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01B 11/00
FI (4件):
H01L21/30 516B ,  H01L21/30 503G ,  G03F7/20 501 ,  G01B11/00 G
Fターム (34件):
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065CC17 ,  2F065FF52 ,  2F065FF61 ,  2F065GG02 ,  2F065GG05 ,  2F065GG07 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ18 ,  2F065LL02 ,  2F065LL12 ,  2F065LL22 ,  2F065LL32 ,  2F065LL42 ,  2F065QQ51 ,  2H097BA04 ,  2H097BA06 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F146AA17 ,  5F146AA22 ,  5F146CB04 ,  5F146CC16 ,  5F146DA06 ,  5F146DA07 ,  5F146DA08 ,  5F146DA09 ,  5F146DA27 ,  5F146DC04 ,  5F146DC10
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 光ファイバアレイとその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-112913   出願人:古河電気工業株式会社
  • 変位・速度測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-261888   出願人:ソニー・テクトロニクス株式会社
  • リソグラフィ投影装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-388950   出願人:エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

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