特許
J-GLOBAL ID：201503074977068041

ニッケル粉とその製造方法

発明者：
石井 潤志

石井 潤志 について

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上田 聡弘

上田 聡弘 について

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植田 貴広

植田 貴広 について

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納谷 匡邦

納谷 匡邦 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (1件)： 河備 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-172807
公開番号（公開出願番号）：特開2015-040339
出願日： 2013年08月23日
公開日（公表日）： 2015年03月02日
要約：
【課題】 水酸化ニッケルを酸化性雰囲気下で加熱し酸化ニッケルを得た後、得られた酸化ニッケルを還元性雰囲気下にて還元することで得られるニッケル粉の残留塩素を低コストでかつ効率良く低減する方法を提供する。【解決手段】 ニッケル塩水溶液をアルカリ水溶液で中和して水酸化ニッケルの沈殿を生成させる工程(A)と、該水酸化ニッケルを空気中で熱処理して酸化ニッケルを生成させる工程(B)と、該酸化ニッケルを還元ガス雰囲気中で還元してニッケル粉とする工程(C)と、還元後のニッケル粉を硫酸水溶液により洗浄した後、スラリーを静置沈降させ、デカンテーションにより上澄み液を分離する工程(D)を備えたニッケル粉の製造方法であって、前記工程(D)において、分離される上澄み液中のニッケル濃度、塩素濃度が特定範囲となるように硫酸濃度と洗浄温度を制御するニッケル粉の製造方法などにより提供。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ニッケル塩水溶液をアルカリ水溶液で中和して水酸化ニッケルの沈殿を生成させる工程(A)と、該水酸化ニッケルを空気中で熱処理して酸化ニッケルを生成させる工程(B)と、該酸化ニッケルを還元ガス雰囲気中で還元してニッケル粉とする工程(C)と、還元後のニッケル粉を硫酸水溶液により洗浄した後、スラリーを静置沈降させ、デカンテーションにより上澄み液を分離する工程(D)を備えたニッケル粉の製造方法であって、 前記工程(D)において、分離される上澄み液中のニッケル濃度が0.6〜3.0g/l、塩素濃度が150〜400mg/lとなるように硫酸濃度と洗浄温度を制御することを特徴とするニッケル粉の製造方法。
IPC (6件)：
B22F 9/22 ,  C22C 19/03 ,  H01B 13/00 ,  H01B 5/00 ,  H01G 4/30 ,  B22F 1/00
FI (6件)：
B22F9/22 G ,  C22C19/03 M ,  H01B13/00 Z ,  H01B5/00 F ,  H01G4/30 301C ,  B22F1/00 M
Fターム (19件)：
4K017AA03 ,  4K017BA03 ,  4K017CA07 ,  4K017DA01 ,  4K017EH01 ,  4K017EH18 ,  4K017FB03 ,  4K017FB06 ,  4K017FB11 ,  4K018BA04 ,  4K018BB04 ,  4K018BC13 ,  4K018BC40 ,  4K018KA37 ,  5E082AB03 ,  5E082EE23 ,  5E082PP03 ,  5E082PP06 ,  5G307AA08
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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