特許

J-GLOBAL ID：201503078150031380

導電パターン形成方法及び光照射またはマイクロ波加熱による導電パターン形成用組成物

発明者： 内田 博
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 在原 元司
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012080468
公開番号（公開出願番号）：WO2013-077448
出願日： 2012年11月26日
公開日（公表日）： 2013年05月30日
要約：

【課題】導電パターンの導電率を向上させることができる導電パターン形成方法及び光照射またはマイクロ波加熱による導電パターン形成用組成物を提供する。【解決手段】表面の全部または一部に酸化銅の薄膜が形成された銅粒子と酸化銅粒子と多価アルコール、カルボン酸またはポリアルキレングリコールである還元剤とバインダー樹脂とを含む導電パターン形成用組成物を調製し、この導電パターン形成用組成物により、基板上に任意形状の印刷パターンを形成し、この印刷パターンに光照射またはマイクロ波加熱を行って銅の焼結体を生成し、導電パターンを形成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

光照射またはマイクロ波加熱による導電パターン形成用組成物であって、 表面の全部または一部に酸化銅の薄膜が形成された銅粒子と、 前記銅粒子より小径の酸化銅粒子と、 還元剤と、 バインダー樹脂と、 を含むことを特徴とする導電パターン形成用組成物。

IPC (5件)：

H05K 1/09 ,  H05K 3/12 ,  H01B 1/22 ,  H01B 1/00 ,  H01B 13/00

FI (7件)：

H05K1/09 A ,  H05K3/12 610B ,  H05K3/12 610D ,  H01B1/22 A ,  H01B1/00 D ,  H01B1/00 K ,  H01B13/00 503D

Fターム (28件)：

4E351AA04 ,  4E351BB01 ,  4E351BB31 ,  4E351CC11 ,  4E351CC22 ,  4E351DD04 ,  4E351DD33 ,  4E351EE06 ,  4E351EE14 ,  4E351EE27 ,  4E351GG06 ,  4E351GG20 ,  5E343AA02 ,  5E343AA18 ,  5E343BB24 ,  5E343BB72 ,  5E343DD03 ,  5E343ER42 ,  5E343GG13 ,  5E343GG20 ,  5G301DA06 ,  5G301DA46 ,  5G301DA53 ,  5G301DA57 ,  5G301DD01 ,  5G301DD02 ,  5G301DE01 ,  5G323CA03