特許
J-GLOBAL ID:201503081036841497

パーティクル測定装置、パーティクル測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-143212
公開番号(公開出願番号):特開2015-018845
出願日: 2013年07月09日
公開日(公表日): 2015年01月29日
要約:
【課題】パーティクルの発生源を効率的に特定できるパーティクル測定装置及びパーティクル測定方法を提供する。【解決手段】パーティクル測定装置20は、電子線によりマスク基板上に所望のパターンを描画する電子線描画装置に用いるパーティクル測定装置であって、パーティクル測定装置20の表面に格子状に複数配置され、表面に付着したパーティクルを検出する検出器Sと、検出器での検出結果を、検出時刻とともにメモリに記憶する制御部と、を具備する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
電子線によりマスク基板上に所望のパターンを描画する電子線描画装置に用いるパーティクル測定装置であって、 前記パーティクル測定装置の表面に格子状に複数配置され、前記表面に付着したパーティクルを検出する検出器と、 前記検出器での検出結果を、検出時刻とともにメモリに記憶する制御部と、 を具備するパーティクル測定装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  H01L 21/66 ,  G01N 23/225
FI (4件):
H01L21/30 541V ,  H01L21/30 541Z ,  H01L21/66 Y ,  G01N23/225
Fターム (17件):
2G001AA03 ,  2G001BA06 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001CA03 ,  2G001GA12 ,  2G001HA13 ,  2G001LA11 ,  4M106AA07 ,  4M106AB01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA42 ,  4M106DH12 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ21 ,  5F056BA10 ,  5F056BB10
引用特許:
審査官引用 (7件)
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