特許

J-GLOBAL ID：201503085988681766

リモネン誘導体の製造方法

発明者： 星野 宗広 ,  田中 雅裕 ,  岩井 秀雄 ,  佐々木 理斗 ,  キタイン アルマンド ,  佐々木 満
出願人/特許権者： 株式会社 アスキー
代理人 (3件)： 松本 久紀 ,  松本 紀一郎 ,  水野 基樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-251378
公開番号（公開出願番号）：特開2015-107932
出願日： 2013年12月04日
公開日（公表日）： 2015年06月11日
要約：

【課題】リモネンを、芳香性に優れ且つ安定した組成物へ変換させたものを製造するための方法等を提供する。【解決手段】リモネン含有物を水又は過酸化水素水とともに反応容器に入れ、無触媒下で、温度150〜200°Cの条件で10〜80分間の水熱処理又は湿式酸化処理を行うこと、特に、リモネン部分酸化物を多く得る場合には1〜3mol/Lの過酸化水素水を用い温度150〜160°C、50〜80分間の条件、リモネン異性化物を選択的に得る場合には1〜3mol/Lの過酸化水素水を用い温度180〜200°C、30〜60分間の条件、水溶性リモネン誘導体を多く得る場合には水又は1〜3mol/Lの過酸化水素水を用い温度150〜200°C、10〜80分間の条件で処理を行うことで、簡便且つ効率的にリモネン異性化物、リモネン部分酸化物、水溶性リモネン誘導体などを得ることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

リモネン含有物を水又は過酸化水素水とともに反応容器に入れ、温度150〜200°Cの条件で10〜80分間の水熱処理又は湿式酸化処理を行う工程を含むことを特徴とする、無触媒下でリモネン異性化物、リモネン部分酸化物、水溶性リモネン誘導体から選ばれる少なくとも1以上を製造する方法。

IPC (9件)：

C07C 5/29 ,  C07C 13/20 ,  C07C 13/23 ,  C07C 13/38 ,  C07C 15/02 ,  C07C 49/403 ,  A23L 1/30 ,  C07C 49/603 ,  C07C 45/28

FI (9件)：

C07C5/29 ,  C07C13/20 ,  C07C13/23 ,  C07C13/38 ,  C07C15/02 ,  C07C49/403 A ,  A23L1/30 B ,  C07C49/603 ,  C07C45/28

Fターム (18件)：

4B018MD07 ,  4B018MD15 ,  4B018MD52 ,  4B018ME14 ,  4B018MF01 ,  4B018MF04 ,  4B018MF14 ,  4H006AA02 ,  4H006AB10 ,  4H006AB12 ,  4H006AB14 ,  4H006AC12 ,  4H006AC27 ,  4H006AC44 ,  4H006BC10 ,  4H006BC19 ,  4H006BC35 ,  4H006BE32

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 蒸煮爆砕装置を用いた難消化性デキストリンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-059807   出願人：国立大学法人豊橋技術科学大学