特許

J-GLOBAL ID：201503091346075757

基板洗浄装置

発明者： 高橋 鉄
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 特許業務法人 天城国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-252026
公開番号（公開出願番号）：特開2015-109372
出願日： 2013年12月05日
公開日（公表日）： 2015年06月11日
要約：

【課題】洗浄効果の高い基板洗浄装置を提供すること。【解決手段】実施形態に係る基板洗浄装置は、ステージ部、流路、洗浄液供給手段、および容器、を具備する。前記ステージ部は、被処理基板を載置可能なものである。前記流路は、スパイラル状であって、前記ステージ部上に前記被処理基板が載置された際に、前記被処理基板の表面から上方に離間した位置に配置される。前記洗浄液供給手段は、前記流路に、前記被処理基板を洗浄する洗浄液を供給する。前記容器は、少なくとも前記被処理基板が洗浄処理される際に、前記ステージ部および前記流路の一部を覆うように構成されており、前記流路から排出される前記洗浄液を蓄積する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被処理基板を載置可能なステージ部と、 このステージ部を回転させる回転軸部と、 前記ステージ部上に前記被処理基板が載置された際に、前記被処理基板の表面から上方に離間した位置に配置され、一定幅を有するスパイラル状の流路と、 この流路に、前記被処理基板を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、 少なくとも前記被処理基板が洗浄処理される際に、前記ステージ部および前記流路の一部を覆うように構成され、前記流路から排出される前記洗浄液を蓄積する容器と、 を具備し、 前記ステージ部は、少なくとも被処理基板を洗浄する際に、前記回転軸部の回転によって回転することすることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ,  B08B 3/04

FI (5件)：

H01L21/304 642F ,  H01L21/304 648K ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 643A ,  B08B3/04 A

Fターム (34件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB02 ,  3B201BB04 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB87 ,  3B201BB92 ,  3B201CC13 ,  3B201CD24 ,  3B201CD43 ,  5F157AA16 ,  5F157AA73 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC26 ,  5F157BB04 ,  5F157BB12 ,  5F157BB22 ,  5F157BB32 ,  5F157BB52 ,  5F157CB02 ,  5F157CB12 ,  5F157CE24 ,  5F157CE32 ,  5F157CF60 ,  5F157DB02 ,  5F157DB38 ,  5F157DB51 ,  5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ウェーハ処理装置及びウェーハ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-210847   出願人：東邦化成株式会社
• 液処理装置及び液処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-314044   出願人：関西日本電気株式会社