特許

J-GLOBAL ID：201503091556586606

表示装置の製造方法

発明者： 波多野 智彦
出願人/特許権者： 日亜化学工業株式会社
代理人 (1件)： 蟹田 昌之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-196245
公開番号（公開出願番号）：特開2015-060215
出願日： 2013年09月20日
公開日（公表日）： 2015年03月30日
要約：

【課題】遮光マスクが撓むことによる位置関係のずれを抑制可能な表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】複数の発光素子が実装された基板を準備する工程と、複数の発光素子の光をそれぞれ通過させる複数の窓部が設けられ、前記発光素子の光が入射する側に向けて凸となる反りを有する遮光マスクを準備する工程と、基板が配置されるケースとネジとを準備する工程と、前記遮光マスクを前記ケースにネジ止めし前記遮光マスクを前記基板に対して平行にするか又は平行に近づける工程と、を有する表示装置の製造方法である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

複数の発光素子が実装された基板を準備する工程と、 複数の発光素子の光をそれぞれ通過させる複数の窓部が設けられ、前記発光素子の光が入射する側に向けて凸となる反りを有する遮光マスクを準備する工程と、 基板が配置されるケースとネジとを準備する工程と、 前記遮光マスクを前記ケースにネジ止めし前記遮光マスクを前記基板に対して平行にするか又は平行に近づける工程と、 を有することを特徴とする表示装置の製造方法。

IPC (5件)：

G09F 9/00 ,  F21V 11/14 ,  F21V 17/00 ,  F21V 19/00 ,  G09F 9/33

FI (7件)：

G09F9/00 313 ,  G09F9/00 350Z ,  F21V11/14 ,  F21V17/00 502 ,  F21V19/00 150 ,  F21V19/00 170 ,  G09F9/33 Z

Fターム (23件)：

3K011BA01 ,  3K011BA06 ,  3K011BA08 ,  3K013BA01 ,  3K013CA05 ,  3K013EA13 ,  5C094AA03 ,  5C094AA12 ,  5C094BA23 ,  5C094CA19 ,  5C094ED01 ,  5C094ED16 ,  5C094JA08 ,  5G435AA09 ,  5G435BB04 ,  5G435DD12 ,  5G435EE08 ,  5G435EE12 ,  5G435EE50 ,  5G435FF13 ,  5G435GG17 ,  5G435GG23 ,  5G435KK07