特許
J-GLOBAL ID:201503091676851508
基板処理装置、基板処理装置の制御方法、および記録媒体
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
, 安田 昌秀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-261468
公開番号(公開出願番号):特開2015-119042
出願日: 2013年12月18日
公開日(公表日): 2015年06月25日
要約:
【課題】処理ユニットから排出される排気の流量が安定するまでの時間を短縮すること。【解決手段】基板処理装置の制御装置4は、処理スケジュールの各時間において設定値変更条件が成立するか否かを判断する。処理スケジュールのいずれかの時間において設定値変更条件が成立する場合、制御装置4は、設定値変更条件が成立する時間における個別排気流量調整ユニットの排気流量設定値が基準値よりも大きな値に設定されるように、処理スケジュールの各時間における個別排気流量調整ユニットの排気流量設定値を規定する個別排気スケジュールを作成する。そして、制御装置4は、処理スケジュールと並行して個別排気スケジュールを実行する。【選択図】図6
請求項(抜粋):
複数枚の基板を一枚ずつ処理する処理ユニットと、
前記処理ユニットから気体を排出する排気ユニットと、
前記処理ユニットおよび排気ユニットを制御するコンピュータとしての制御装置と、を備え、
前記処理ユニットは、
内部空間を有するチャンバーと、
前記チャンバー内で基板を保持する基板保持ユニットと、
前記基板保持ユニットに保持されている基板に処理流体を供給する処理流体供給ユニットと、
互いに離れた位置である原点位置および動作位置の間で前記チャンバー内を移動可能な可動部材と、を含み、
前記排気ユニットは、
前記チャンバーから排出された気体を排気処理設備に向けて案内する個別排気ダクトと、
前記排気処理設備に向かって前記個別排気ダクト内を流れる排気の流量を調整する個別排気流量調整ユニットと、を含み、
前記制御装置は、
基板を処理するときの前記処理ユニットの動作を時系列で規定する処理スケジュールを作成する処理スケジュール作成ステップと、
前記処理スケジュール作成ステップで作成された前記処理スケジュールの各時間において、前記可動部材が前記原点位置以外の位置に位置している位置条件を含む設定値変更条件が成立するか否かを判断する設定値変更判断ステップと、
前記処理スケジュールのいずれかの時間において前記設定値変更条件が成立する場合、前記設定値変更条件が成立する時間における前記個別排気流量調整ユニットの排気流量設定値が、前記可動部材が前記原点位置に位置しているときの設定値である基準値よりも大きな値に設定されるように、前記処理スケジュールの各時間における前記個別排気流量調整ユニットの排気流量設定値を規定する個別排気スケジュールを作成する個別排気スケジュール作成ステップと、
前記処理スケジュールと並行して前記個別排気スケジュールを実行する個別排気スケジュール実行ステップと、を実行する、基板処理装置。
IPC (4件):
H01L 21/306
, H01L 21/304
, G02F 1/13
, H01L 21/027
FI (7件):
H01L21/306 R
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 648L
, H01L21/304 648H
, H01L21/304 651B
, G02F1/13 101
, H01L21/30 569C
Fターム (51件):
2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 5F043DD13
, 5F043EE07
, 5F043EE08
, 5F043EE09
, 5F043EE32
, 5F043EE37
, 5F146LA06
, 5F146LA07
, 5F157AB02
, 5F157AB14
, 5F157AB16
, 5F157AB33
, 5F157AB49
, 5F157AB90
, 5F157AC26
, 5F157BB22
, 5F157BB23
, 5F157BB42
, 5F157BD02
, 5F157BD09
, 5F157BD25
, 5F157BD33
, 5F157BD35
, 5F157BE12
, 5F157BE23
, 5F157BF12
, 5F157BF37
, 5F157BF39
, 5F157CB03
, 5F157CB13
, 5F157CB15
, 5F157CD02
, 5F157CD03
, 5F157CD05
, 5F157CD07
, 5F157CD22
, 5F157CD27
, 5F157CE03
, 5F157CE09
, 5F157CE10
, 5F157CE21
, 5F157CE25
, 5F157CE61
, 5F157CE82
, 5F157CF20
, 5F157CF42
, 5F157CF92
引用特許:
出願人引用 (7件)
-
特開平3-224213
-
回転式基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-323839
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-126126
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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審査官引用 (7件)
-
特開平3-224213
-
回転式基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-323839
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-126126
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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