特許

J-GLOBAL ID：201503092066879520

細胞培養支持体の製造方法

発明者： 岡野 光夫 ,  大和 雅之 ,  清水 達也 ,  秋山 義勝 ,  渡邊 広也 ,  芦葉 恵介 ,  渡辺 正直
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社 ,  学校法人東京女子医科大学 ,  株式会社セルシード
代理人 (2件)： 平木 祐輔 ,  藤田 節
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-101159
公開番号（公開出願番号）：特開2013-162796
特許番号：特許第5657744号
出願日： 2013年05月13日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 温度応答性ポリマーである刺激応答性高分子が共有結合により表面に固定化された細胞培養支持体の製造方法であって、 放射線照射により重合して前記刺激応答性高分子を形成し得るモノマーと、前記モノマーが重合してなるオリゴマー又はプレポリマーと、有機溶媒とを含む塗布用組成物を、放射線照射により前記刺激応答性高分子が共有結合を介して導入され得る材料を含む表面を備えた基材に塗布して、前記基材の表面上に塗膜を形成する塗布工程と、 前記塗膜に放射線を照射して、基材表面上における前記刺激応答性高分子の形成反応を進行させる放射線照射工程と、 前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを含み、 前記塗布用組成物中の前記モノマーの配合量が、製造される細胞培養支持体の細胞接着性、細胞シートの剥離性及び単一細胞の剥離性の少なくとも一つが所定の程度となるように、基材の水接触角に基づき決定された配合量であり、 前記オリゴマー又はプレポリマーの分子量が3,300より大きく、 前記モノマーがイソプロピルアクリルアミドモノマーであり、前記オリゴマー又はプレポリマーがポリイソプロピルアクリルアミドである、前記方法。

IPC (3件)：

C12M 3/00 ( 200 6.01) ,  C08J 7/04 ( 200 6.01) ,  C08J 7/18 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C12M 3/00 A ,  C08J 7/04 A ,  C08J 7/18