特許
J-GLOBAL ID：201503092068208143

均一系不斉水素化反応用触媒

発明者：
清水 英雄

清水 英雄 について

, 
五十嵐 大輔

五十嵐 大輔 について

, 
栗山 亙

栗山 亙 について

, 
遊佐 雪徳

遊佐 雪徳 について


出願人/特許権者：
高砂香料工業株式会社

高砂香料工業株式会社 について


代理人 (7件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  箱田 篤 ,  浅井 賢治 ,  山崎 一夫 ,  市川 さつき ,  田代 玄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-243030
公開番号（公開出願番号）：特開2013-060451
特許番号：特許第5694275号
出願日： 2012年11月02日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(61) [L11L12CuL13]n35 (61) (式中、L11は、2,2’-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1’-ビナフチル(BINAP)、2,2’-ビス(ジ(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィノ)-1,1’-ビナフチル(DM-BINAP)、(4,4’-ビ-1,3-ベンゾジオキソール)-5,5’-ジイルビス(ジフェニルホスフィン)(SEGPHOS)、(4,4’-ビ-1,3-ベンゾジオキソール)-5,5’-ジイルビス[ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスフィン](DM-SEGPHOS)、[[4,4’-ビ-1,3-ベンゾジオキソール]-5,5’-ジイル]ビス[ビス[3,5-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-メトキシフェニル]ホスフィン](DTBM-SEGPHOS)、2,4-ビス-(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(SKEWPHOS)、1,2-ビス(2,5-ジメチルホスフォラノ)ベンゼン(Me-DuPHOS)、[2-(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジシクロヘキシルホスフィン(Josiphos)からなる群より選ばれる光学活性リン化合物を示し、L12は下記一般式(41) PR1513 (41) (式中、3個のR151は同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアラルキルオキシ基、アミノ基又は置換アミノ基を示す。) で表されるリン化合物を示し、L13は配位子を示し、n35は自然数を示す。)で表される均一系水素化反応用触媒。
IPC (17件)：
B01J 31/24 ( 200 6.01) ,  C07C 29/145 ( 200 6.01) ,  C07C 33/22 ( 200 6.01) ,  C07C 33/40 ( 200 6.01) ,  C07C 33/20 ( 200 6.01) ,  C07C 41/26 ( 200 6.01) ,  C07C 43/23 ( 200 6.01) ,  C07C 213/00 ( 200 6.01) ,  C07C 215/68 ( 200 6.01) ,  C07C 33/18 ( 200 6.01) ,  C07C 31/125 ( 200 6.01) ,  C07D 307/44 ( 200 6.01) ,  C07D 209/08 ( 200 6.01) ,  C07F 9/50 ( 200 6.01) ,  C07F 1/08 ( 200 6.01) ,  C07B 53/00 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (17件)：
B01J 31/24 Z ,  C07C 29/145 ,  C07C 33/22 ,  C07C 33/40 ,  C07C 33/20 ,  C07C 41/26 ,  C07C 43/23 B ,  C07C 213/00 ,  C07C 215/68 ,  C07C 33/18 ,  C07C 31/125 ,  C07D 307/44 ,  C07D 209/08 ,  C07F 9/50 ,  C07F 1/08 ,  C07B 53/00 B ,  C07B 61/00 300
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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