特許

J-GLOBAL ID：201503092297079225

研磨具

発明者： 甲田 卓也 ,  張 軍 ,  沢田 清孝 ,  甲斐 聡 ,  戴 楊洋
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 瀧野 秀雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-171677
公開番号（公開出願番号）：特開2015-039735
出願日： 2013年08月21日
公開日（公表日）： 2015年03月02日
要約：

【課題】スクラッチの発生がなく、かつ、高い加工効率を実現できる優れた研磨具、および、そのような研磨具を製造する方法を提供する。【解決手段】多数の砥粒3を固定するバインダ層2が基材1の表面に設けられ、かつ、砥粒3の少なくとも一部がバインダ層2から突出状態で配置されてなる研磨具において、砥粒3が球状であり、砥粒3の粒径分布におけるD10が30μm以上でかつD90が100μm以下であり、かつ、バインダ層2の表面ラインからの、多数の砥粒3の突出量の、最大値と最小値との差が10μm以下である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

多数の砥粒を固定するバインダ層が基材の表面に設けられ、かつ、前記砥粒の少なくとも一部が前記バインダ層から突出状態で配置されてなる研磨具において、 前記砥粒が球状であり、 前記砥粒の粒径分布におけるD10が30μm以上でかつD90が100μm以下であり、かつ、 前記バインダ層の表面ラインからの、前記多数の砥粒の突出量の、最大値と最小値との差が10μm以下であることを特徴とする研磨具。

IPC (2件)：

B24D 3/00 ,  B24D 3/28

FI (4件)：

B24D3/00 310F ,  B24D3/00 320A ,  B24D3/00 330A ,  B24D3/28

Fターム (4件)：

3C063AA03 ,  3C063BB01 ,  3C063BB08 ,  3C063BC03